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90、在我国，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》保护。
参考答案和解析
A
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考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A.布图设计专有权的取得方式是登记B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C.对布图设计专有权可以适用强制许可D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
考题
根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
考题
以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）
A.布图设计自创完成之日起15年内。
B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。
C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。
D.自布图设计登记申请日起算10年内。
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法正确的是（）。
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等
D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年
E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》及其他相关规定，下列哪些说法是正确的？( )A.布图设计登记申请的申请文件未使用中文的，国家知识产权局不予受理
B.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行初步审查
C.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行实质审查
D.布图设计明显不符合该条例所规定的布图设计定义的，国家知识产权局应当作出驳回决定
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些说法是正确的？（）A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B、外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C、外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D、中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
考题
在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A、10年，自布图设计创作完成之日起计算B、15年，自布图设计登记申请之日起计算C、15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D、10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A
甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B
乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C
丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D
丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
不定项题依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A布图设计专有权的取得方式是登记B布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C对布图设计专有权可以适用强制许可D对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）A集成电路布图设计登记申请表B集成电路布图设计的说明书和权利要求书C集成电路布图设计的复制件或者图样D集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
考题
单选题关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A
该布图设计必须由个人对立创造B
该布图设计必须投入商业实施C
受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D
受保护的布图设计必须办理登记手续
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