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以下正确的光刻工艺流程是

A．底膜处理-涂胶-前烘-曝光-显影-坚膜-刻蚀-去胶

B．底膜处理-前烘-涂胶-曝光-显影-坚膜-刻蚀-去胶

C．底膜处理-涂胶-前烘-显影-曝光-坚膜-刻蚀-去胶

D．底膜处理-涂胶-前烘-曝光-显影-坚膜-去胶-刻蚀

参考答案和解析
底膜处理→涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶
更多 “以下正确的光刻工艺流程是A．底膜处理-涂胶-前烘-曝光-显影-坚膜-刻蚀-去胶B．底膜处理-前烘-涂胶-曝光-显影-坚膜-刻蚀-去胶C．底膜处理-涂胶-前烘-显影-曝光-坚膜-刻蚀-去胶D．底膜处理-涂胶-前烘-曝光-显影-坚膜-去胶-刻蚀” 相关考题
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