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填空题
在生产商用亲电性物质时,不把产品直接做成亲电性的成品,而采用一些掩蔽剂把亲电基团掩蔽起来,使用时再用适当的试剂去掉掩蔽剂,使需要的亲电物质现场生成,这种方法称为()。这样,就减少了该产品在()的危险性。

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考题 在分光光度法中,消除共存离子干扰的方法有A、用选择性好的显色剂和溶剂B、用选择性好的溶剂和掩蔽剂C、用选择性好的显色剂、控制反应溶液的pH或用掩蔽剂D、用掩蔽剂和控制反应的温度E、控制反应的温度和时间

考题 氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。() 此题为判断题(对,错)。

考题 利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。

考题 利用掩蔽剂来()干扰离子的浓度,使之不与EDTA或指示剂络合,这种方法称掩蔽法。 A、降低B、升高C、不改变

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。此题为判断题(对,错)。

考题 由于维生素C注射液中加有适量的焦亚硫酸钠为稳定剂,焦亚硫酸钠具有还原性,会与碘滴定液发生氧化还原反应,导致含量测定结果偏高,为排除其干扰,可在滴定前加入适量的A、淀粉掩蔽剂B、醋酸掩蔽剂C、硫酸钠掩蔽剂D、丙酮掩蔽剂E、甲醇掩蔽剂

考题 关于表面活性剂分子结构表述正确的是A:具有亲水基团与疏水基团 B:仅有亲水基团而无疏水基团 C:仅有疏水基团而无亲水基团 D:具有网状结构 E:具有双电层结构

考题 在EDTA配位滴定中,下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是()。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的

考题 烯烃由()进攻而进行的加成反应称为亲电加成。A、格氏试剂B、亲电试剂C、马氏试剂D、金属

考题 注射剂中抗氧剂的排除采用加()或()为掩蔽剂。

考题 一种能与干扰离子起作用,而不影响试验结果的试剂叫做掩蔽剂。()

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能被掩蔽而引起误差。

考题 在选择掩蔽剂时,掩蔽剂应与被测离子形成络合物。

考题 当注射剂中含有NaHSO3,NaSO3等抗氧剂干扰测定时,可以采用()A、加入丙酮做掩蔽剂B、加入甲酸做掩蔽剂C、加入甲醛做掩蔽剂D、加盐酸酸化,加热使分解E、加入氢氧化钠,加热使分解

考题 亲核取代反应中,极化的正电中心被亲核试剂进攻,一个基团带着一对电子离去,这个基团叫做()。A、亲电基团B、亲核基团C、离去基团D、定位基团

考题 络合掩蔽剂和沉淀掩蔽剂各应具备什么条件?

考题 掩蔽剂

考题 掩蔽剂是指种能干扰离子起作用,而不影响()的试剂。

考题 阳离子聚合的阻聚剂是()A、亲核试剂B、亲电试剂C、DPPHD、三氯化铁

考题 简述采用掩蔽剂时应注意什么?

考题 常用的掩蔽干扰离子的方法有哪些?如何选择合适的掩蔽剂?

考题 单选题丁二酮重量法测定钢中镍,用酒石酸掩蔽Fe3+,Al3+,Ti4+等的干扰,用氨水调节溶液的PH,氨水、掩蔽体、沉淀剂加入的顺序是()A 氨水、掩蔽体、沉淀剂B 掩蔽体、氨水、沉淀剂C 掩蔽体、沉淀剂、氨水D 无需考虑试剂加入顺序

考题 单选题阳离子聚合的阻聚剂是()A 亲核试剂B 亲电试剂C DPPHD 三氯化铁

考题 单选题在测定混合物中某一组分时,为了消除其它组分的干扰,比较简便的方法是()。A 控制分析条件,采用适当的掩蔽剂B 首先进行分离,再用气相色谱法测定C 用气相色谱法测定,再用掩蔽剂D 首先进行分离,再控制分析条件

考题 问答题配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件?

考题 问答题络合掩蔽剂和沉淀掩蔽剂各应具备什么条件?

考题 单选题阴离子聚合反应的引发剂为()A 亲电性试剂B 亲和性试剂C 两性试剂D 无电性的试剂

考题 填空题在生产商用亲电性物质时,不把产品直接做成亲电性的成品,而采用一些掩蔽剂把亲电基团掩蔽起来,使用时再用适当的试剂去掉掩蔽剂,使需要的亲电物质现场生成,这种方法称为()。这样,就减少了该产品在()的危险性。