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在选择掩蔽剂时,掩蔽剂应与被测离子形成络合物。


参考答案

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考题 在分光光度法中,消除共存离子干扰的方法有A、用选择性好的显色剂和溶剂B、用选择性好的溶剂和掩蔽剂C、用选择性好的显色剂、控制反应溶液的pH或用掩蔽剂D、用掩蔽剂和控制反应的温度E、控制反应的温度和时间

考题 在配位滴定中,若指示剂与金属离子形成的配合物很稳定,以致在终点时不能被EDTA置换,这种现象称为指示剂封闭,为消除这种现象,可加入()A、掩蔽剂B、缓冲溶液C、共存离子D、非水溶剂

考题 用分光光度法测全硅时,()和()均可作掩蔽剂和解络剂。

考题 利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。

考题 利用掩蔽剂来()干扰离子的浓度,使之不与EDTA或指示剂络合,这种方法称掩蔽法。 A、降低B、升高C、不改变

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。此题为判断题(对,错)。

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能被掩蔽而引起误差。此题为判断题(对,错)。

考题 分光光度法分析中,如果显色剂无色,而被测试液中含有其他有色离子时,宜选择()作参比液可消除影响。A.蒸馏水B.不加显色剂的待测液C.掩蔽掉被测离子并加入显色剂的溶液D.掩蔽掉被测离子的待测液

考题 酒石酸钾钠是作为掩蔽金属离子的掩蔽剂参加测定的。此题为判断题(对,错)。

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。

考题 在EDTA配位滴定中,下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是()。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的

考题 分光光度法的参比液的类型有()。A、加入掩蔽剂的蒸馏水B、蒸馏水C、不加显色剂的被测试液D、加入掩蔽剂的被测溶液

考题 用分光光度法测定某溶液,若没有其它离子干扰,显色剂也无色,通常选择()做参比。A、水B、试剂空白C、掩蔽被测组分的显色溶液D、空气

考题 在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力

考题 分光光度法分析中,如果显色剂无色,而被测试液中含有其他有色离子时,宜选择()作参比液可消除影响。A、蒸馏水B、不加显色剂的被测液C、掩蔽掉被测离子并加入显色剂的溶液D、掩蔽掉被测离子的待测液

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能被掩蔽而引起误差。

考题 配位滴定法中利用掩蔽剂掩蔽杂质离子的方法有()、()和()。

考题 配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断

考题 用离子选择性电极测定氟含量时,常需加入总离子强度调节缓冲剂,其包括( )。A、离子强度调节剂B、掩蔽剂C、沉淀剂D、pH缓冲剂

考题 简单络合物的逐级稳定常数较为接近,无法作为掩蔽剂使用。

考题 在直接络合滴定法中,终点时一般情况下溶液显示的颜色为()A、被测金属离子与EDTA络合物的颜色B、被测金属离子与指示剂配合物的颜色C、游离指示剂的颜色D、被测金属离子与EDTA络合物和游离指示剂的颜色

考题 吸光物质的摩尔吸收系数与下列哪些因素有关?入射光波长,被测物质的浓度,络合物的解离度,掩蔽剂。

考题 常用的掩蔽干扰离子的方法有哪些?如何选择合适的掩蔽剂?

考题 问答题吸光物质的摩尔吸收系数与下列哪些因素有关?入射光波长,被测物质的浓度,络合物的解离度,掩蔽剂。

考题 单选题在配位滴定中,消除金属指示剂僵化现象的方法是()A 加热B 分离出被测离子C 掩蔽干扰离D 加酸

考题 单选题用指示剂(In),以EDTA(Y)滴定金属离子M时常加入掩蔽剂(X)消除某干扰离子(N)的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是()。A KNX<KNYB KNX>>KNYC KMX<<KMYD KMIn>KMX

考题 多选题用离子选择性电极测定氟含量时,常需加入总离子强度调节缓冲剂,其包括( )。A离子强度调节剂B掩蔽剂C沉淀剂DpH缓冲剂