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判断题
光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是,光刻胶只对特定波长的光线敏感,例如深紫外线和白光,而对黄光不敏感。
A

B


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考题 在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA

考题 在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度

考题 人眼对不同波长的可见光具有不同的敏感程度。测量表明,正常人眼对波长为555nm的()最为敏感。A、白光B、蓝紫光C、红光D、黄绿光

考题 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

考题 晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。A、除去光刻胶中剩余的溶剂B、增强光刻胶对晶片表面的附着力C、提高光刻胶的抗刻蚀能力D、有利于以后的去胶工序E、减少光刻胶的缺陷

考题 用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。A、ARCB、HMDSC、正胶D、负胶

考题 在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。A、化学增强B、化学减弱C、厚度增加D、厚度减少

考题 下列色光中对胶卷最敏感的光线是()。A、红光B、蓝光C、黄光D、紫光E、绿光F、橙光

考题 白天化妆时,为避免过浓,应该用()光线来化妆。A、白光灯B、黄光灯C、靠近窗前的天然光线D、蓝灯光

考题 名词解释题光刻胶

考题 填空题光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有()、()、()、()。

考题 问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。

考题 问答题什么是正光刻胶,负光刻胶?

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考题 名词解释题正光刻胶

考题 判断题有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。A 对B 错

考题 单选题人的眼睛只对特定波长的光敏感的现象描述的是感觉的A 感受性B 特殊性C 时间特性D 适应性

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考题 判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。A 对B 错

考题 单选题下列色光中对胶卷最敏感的光线是()。A 红光B 蓝光C 黄光D 紫光E 绿光F 橙光

考题 判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A 对B 错

考题 单选题发育少于4周的龙虾只对(  )敏感。A 红光B 绿光C 蓝光D 黄光

考题 单选题白光通过黄色料,黄色料会吸收白光中的()透射或反射黄光。A 蓝光B 红光C 绿光D 青光

考题 单选题人眼对不同波长的可见光具有不同的敏感程度。测量表明,正常人眼对波长为555nm的()最为敏感。A 白光B 蓝紫光C 红光D 黄绿光