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PECVD就是利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的CVD技术。
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考题
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A、物理气相沉积（PVD）B、物理气相沉积（CVD）C、化学气相沉积（VCD）D、化学气相沉积（CVD）
考题
单选题利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A
物理气相沉积（PVD）B
物理气相沉积（CVD）C
化学气相沉积（VCD）D
化学气相沉积（CVD）
考题
填空题等离子体放电烧结过程中对参数的控制包括（）、（）、升温速率、压力、保温时间。
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