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简述PECVD薄膜沉积的原理。
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考题
问答题薄膜在KOH水溶液中的腐蚀速率非常慢,因此常作为硅片定域KOH各向异性腐蚀的掩蔽膜,而PECVD氮化硅薄膜在KOH水溶液中的腐蚀速率快。怎样才能用已淀积的PECVD氮化硅薄膜作为KOH各向异性腐蚀的掩蔽膜?
考题
单选题获得性薄膜是()A
成釉细胞在釉质表面分泌的薄膜B
结合上皮在釉质表面分泌的薄膜C
唾液蛋白在牙面的沉积物D
黏附于牙面的软性沉积物E
附着在牙面上硬性沉积物
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