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金属与p型半导体形成的MIS结构在耗尽状态时Qs的增加主要由加宽的那部分耗尽层中的()承担所致。

A.电离施主

B.电离受主

C.电子

D.空穴


参考答案和解析
错误
更多 “金属与p型半导体形成的MIS结构在耗尽状态时Qs的增加主要由加宽的那部分耗尽层中的()承担所致。A.电离施主B.电离受主C.电子D.空穴” 相关考题
考题 在纯净半导体中,掺入三价元素,就会形成()型半导体,如掺入五价元素,就会形成()型半导体。 A、P,NB、N,PC、P,PD、N,N

考题 半导体晶体管所以具有单向导电性,是因为制造时使用特殊工艺,将P型半导体与N型半导体结合在一起,从而在P型半导体与N型半导体的接触面附近形成了PN结的缘故。() 此题为判断题(对,错)。

考题 在本征半导体中,()是多子,由()形成。在P型半导体中,()是少子,由()形成。

考题 在半导体电路中所形成的电流是由两部分组成的,即自由电子与空穴,前者叫电子型导电(N),后者叫空穴型导电(P)。

考题 半导体晶体管所以具有单向导电性,是因为制造时使用特殊工艺,将P型半导体与N型半导体结合在一起,从而在P型半导体与N型半导体的接触面附近形成了PN结的缘故。

考题 N型半导体和P型半导体中的多数载流子性质不同,N型半导体带负电,而P型半导体带正电,所以PN结形成内电场。

考题 在杂质半导体中,()是掺入三价元素形成的。A、本征半导体B、PN结C、N型半导体D、P型半导体

考题 在硅(或锗)本征半导体中掺入微量的()元素,就形成了主要由自由电子导电的电子型半导体,即n型半导体。A、三价B、四价C、五价

考题 二极管是P型半导体和N型半导体结合在一起,在交界面()。A、PN结B、耗尽层C、连接层D、阻挡层E、耗尽层F、扩散层

考题 当PN结加正向电压时,扩散电流()漂移电流,耗尽层()。当PN结加反向电压时,扩散电流()漂移电流,耗尽层()A、大于B、变窄C、等于D、小于E、变宽F、不变

考题 在本征半导体中掺入少量的三价元素杂质就形成()。A、P型半导体B、N型半导体C、异性半导体D、C型半导体

考题 在半导体中掺入五价磷原子后形成的半导体称为()。A、本征半导体B、P型半导体C、N型半导体D、化合物半导体

考题 非晶半导体材料,是失去了像结晶型那长距离晶格结构后的材料,其原子周围的化学键状态与结晶时保持()的状态。

考题 外加反向电压,PN结中的耗尽层宽度将变宽。

考题 在纯净的半导体中加入少量的+5价元素,形成()A、本征半导体B、N型半导体C、P型半导体D、杂质半导体

考题 PN结未加外部电压时,扩散电流()漂流电流,加正向电压时,扩散电流()漂流电流,其耗尽层();加反向电压时,扩散电流()漂流电流,其耗尽层()。

考题 当PN结外加正向电压时,扩散电流()漂移电流,耗尽层变窄,当PN结外加反向电压时,扩散电流小于漂移电流,耗尽层变宽。A、大于B、小于C、等于D、变宽

考题 当PN结外加正向电压时,耗尽层的宽度将()

考题 当PN结外加正向电压时,扩散电流()漂移电流,耗尽层()。当外加反向电压时,扩散电流()漂移电流,耗尽层()。

考题 n型半导体主要由自由电子导电,p型半导体主要由()。

考题 自然界物质按导电能力分为()三种。纯净的半导体又称为()半导体,用的最多的半导体是硅和锗,它们都具有晶体结构,在纯净半导体中掺入三阶元素后形成空穴P型半导体,掺入五价元素后形成电子N型半导体,半导体受()的影响最大。

考题 当PN结外加正向电压时,()增加,耗尽层变窄。A、中和电流B、扩散电流C、漂移电流D、正弦电流

考题 p型半导体中杂质原子所形成的局部能级(也称受主能级),在能带结构中应处于()。A、满带中B、导带中C、禁带中,但接近满带顶D、禁带中,但接近导带底

考题 N型半导体,P型半导体中的多数载流子性质不同,N型半导体带负电,而P型半导体带正电,所以PN结形成内电场。

考题 填空题P型半导体是向本征半导体中参入低价元素形成的。P型半导体中的导电粒子为()。本征半导体的费米能级位于导带与禁带的中间。费米能级的位置随电子浓度的增加而()。

考题 填空题n型半导体主要由自由电子导电,p型半导体主要由()。

考题 单选题关于P型半导体的下列说法,错误的是()。A 空穴是多数载流子B 在二极管中,P型半导体一侧接出引线后,是二极管的正极C 在纯净的硅衬底上,掺杂五价元素,可形成P型半导体D 在NPN型的晶体管中,基区正是由P型半导体构成

考题 填空题在P型衬底MOS结构的金属电极上施加正电压时,接近半导体表面处的()被排斥,留下()形成()。