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化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。
参考答案和解析
化学机械抛光是一种利用研磨液腐蚀作用和磨粒机械作用的双重作用的研磨方法。在利用磨粒和有腐蚀效果的研磨液的研磨中，有使用氧化铁和硫酸或盐酸的水溶液，也有使用MnZn铁淦氧、Al 2 O 3 磨粒和盐酸水溶液研磨钆、镓、石榴石基板的实例，其目的都是为提高加工效率和加工质量。不使用磨粒而只利用具有腐蚀效果的加工液进行摩擦抛光的研磨，更适合化合物半导体晶片的加工。对于GaAs晶片，使用NaClO 3 水溶液或溴甲醇和人造革研具，可以进行几乎大加工缺陷的镜面研磨。
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考题
下列抛光机的使用方法中，哪一项是对的？ ()A.抛光机使用时应用力抛，这样才能抛得亮。B.抛光时应将镜片侧边与抛光轮旋转方向相垂直。C.抛光时应将镜片需抛光位置与抛光轮相垂直，并顺着抛光轮旋转方向抛光，不可抛到镜片表面。D.毡轮可以抛树脂片也可以抛玻璃片。
考题
有一种抛光方法，抛光后能得到的表面粗糙度一般为数10μm，它不需要复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率很高，它的难点是配制抛光液复杂。这种方法是（）。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光
考题
下列抛光机的使用方法中，哪一项是对的？（）A、抛光机使用时应用力抛，这样才能抛得亮。B、抛光时应将镜片侧边与抛光轮旋转方向相垂直。C、抛光时应将镜片需抛光位置与抛光轮相垂直，并顺着抛光轮旋转方向抛光，不可抛到镜片表面。D、毡轮可以抛树脂片也可以抛玻璃片。
考题
有一种抛光方法，它是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工，加工效率高，质量好，加工条件容易控制。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。这种方法是（）。A、化学抛光B、磁研磨抛光C、流体抛光D、机械抛光
考题
单选题挤压研磨抛光的特点是（）。A
适用范围小，但抛光效果好，研磨抛光效率高B
适用范围广，抛光效果好，研磨抛光效率高C
适用范围广，抛光效果一般，但研磨抛光效率高D
适用范围广，抛光效果好，但研磨抛光效率低
考题
问答题简述化学机械平坦化的工作原理。它的抛光速率受哪些因素的影响？
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