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有一种抛光方法,抛光后能得到的表面粗糙度一般为数10μm,它不需要复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率很高,它的难点是配制抛光液复杂。这种方法是()。
- A、化学抛光
- B、超声波抛光
- C、磁研磨抛光
- D、机械抛光
参考答案
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考题
有一种抛光方法,它是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工,加工效率高,质量好,加工条件容易控制。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。这种方法是()。A、化学抛光B、磁研磨抛光C、流体抛光D、机械抛光
考题
填空题CMP是一种表面()的技术,它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面,在硅片和抛光头之间有(),并同时施加()。
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