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问答题
目前主流集成电路设计特征尺寸已经达到多少？预计2016年能实现量产的特征尺寸是多少？
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考题
单选题（）允许将一个非定位实体特征移动到指定的位置，对于存在有定位尺寸的特征，可通过编辑位置尺寸的方法移动特征，从而达到修改实体特征的目的。A
编辑位置B
移动特征C
特征重排序D
参数编辑
考题
单选题以下关于MEMS概念的描述中，错误的是（）。A
通过微细加工技术及微机械加工技术在半导体基板上制作的微型电子机械装置B
在微电子学中衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度是特征尺寸C
特征尺寸为1μm~10mm为小型机构D
特征尺寸为1nm~10μm为纳米机械
考题
问答题坍落度内部尺寸是多少？
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