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模拟移动床中，产品PX中的MX、OX含量高是由于吸附剂中的水含量不合适引起的。（）

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考题 PX产品中；MX 0.2%、OX 0.1%、EB 0.2%，如何处理？
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考题 模拟移动床中，影响产品PX中乙苯含量的因素是（）。A、Ⅰ区B、Ⅱ区C、Ⅲ区D、Ⅳ区
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考题 在模拟移动床工艺中，只要PX在吸附区吸附不完全，提高单位芳烃流量下吸附剂有效容积的循环量总能提高产品PX的单程收率。（）
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考题 模拟移动床工艺中，产品PX中的MX、OX含量高是由于吸附剂中的水含量不合适引起的。（）
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考题 模拟移动床中，正常情况下，影响产品PX中乙苯含量的因素是（）A、Ⅱ区B、Ⅳ区C、Ⅲ区D、Ⅰ区
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考题 若PX产品中OX、MX、EB都高，造成的因素可能是（）。A、存在机械泄漏B、封头出现污染C、吸附剂性能变差D、成品塔分离效果差
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考题 模拟移动床工艺中，产品PX中NA含量高时，应（）。A、提高精制区回流比B、提高缓冲区回流比C、精制区、缓冲区都提高D、降低缓冲区回流比
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考题 循环解吸剂中C8A含量超标将导致产品PX中的MX、OX、EB含量升高甚至不合格，因此产品PX中的MX、OX、EB一定与解吸剂遭受MX、OX、EB污染有关。（）
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考题 判断抽出液塔底再沸器泄漏的依据是（）。A、循环解吸剂中的C8A含量超标B、抽出液塔底解吸剂中的混合C8A含量高于循环解吸剂中的C8A含量C、抽出液塔的再沸量偏高D、产品PX中的MX、OX、E
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考题 如果产品PX中只有乙苯含量高，提高精制区回流比，总能降低产品PX中的乙苯含量。（）
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考题 成品塔塔底PX中的OX含量高，其余杂质含量正常的可能原因是（）。A、原料中的OX含量高B、吸附剂性能变坏C、抽余液塔底物料中的OX含量超标D、抽余液塔温差低
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考题 产品PX中只有MX含量上升显著且产量没有下降的可能原因是（）。A、原料中的水含量偏高B、缓冲区回流比偏高C、吸附剂的注水量低D、原料中的水含量高
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考题 模拟移动床工艺中，在保证产品PX收率的的情况下，与A/FA有关的因素是（）。A、吸附剂的选择性B、吸附剂选择性体积的百分含量C、吸附剂非选择性体积的百分含量D、产品PX纯度的控制指标
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考题 判断抽余液塔底再沸器泄漏的依据是（）。A、抽余液塔底解吸剂中的C8A含量超标B、抽余液塔底解吸剂中的C8A含量超标且四种异构体比例与原料中的MX、OX、EB含量之比相近C、成品塔塔底产品PX中的MX、OX、EB含量之比与与原料中的MX、OX、EB含量之比相近D、循环解吸剂中的C8A含量超标且四种异构体含量的比例与原料中的MX、OX、EB含量之比相近
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考题 产品PX中只有MX含量上升显著且产量明显下降是由于吸附剂注水量高引起的。（）
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考题 产品PX中MX含量上升显著且单程收率明显下降，下列描述中正确的是（）。A、原料中的MX含量高B、吸附剂注水量高C、吸附剂注水量低D、缓冲区回流比偏高
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考题 吸附水剂注水的目的是（）。A、提高吸附剂的性能B、提高吸附分离过程中PX对EB、MX、OX的选择性系数C、提高吸附剂的吸附容量D、提高吸附分离过程中PX对MX的选择性系数
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考题 产品PX中只有MX含量高可以通过降低缓冲区回流比的方法来解决。（）
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考题 抽余液塔侧线物料中的PX含量高，成品塔底物料PX浓度下降且MX含量上升快的可能原因是（）。A、吸附剂水含量高B、吸附剂水含量低C、进入吸附塔内的原料流量偏高D、进入吸附塔内的解吸剂流量偏低
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考题 若吸附剂中水含量偏少，则PX产品中首先变高的组分是（）。A、MXB、OXC、EBD、NA
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考题 判断吸附剂注水量高的依据是（）。A、抽余液中的水含量高B、原料中的水含量低C、经过标定吸附剂的注水量高于UOP的规范D、产品PX的纯度下降、收率下降
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考题 如果异构化催化剂酸性活性中毒其表现为（）。A、反应产品中MX含量减少B、反应产品中MX含量增加C、反应产品中PX/∑X增加D、反应产品中PX/∑X降低
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考题 成品塔塔底PX中的EB含量高，其余各项指标均正常的可能原因是（）。A、Ⅱ区回流比低B、吸附剂水含量低C、吸附剂中水含量高D、泵送循环流量偏低
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考题 产品PX中只有MX含量上升显著且产量明显下降的可能原因是（）。A、原料中的水含量偏高B、吸附剂的注水量高C、吸附剂的水含量低D、原料中的MX含量高
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考题 模拟移动床中，产品PX中的乙苯含量高是由于过低的Ⅱ区回流比造成的。（）
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考题 产品PX中MX含量上升显著的可能原因是（）。A、原料中的MX含量高B、吸附剂注水量高C、吸附剂注水量低D、缓冲区回流比偏高
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考题 判断吸附剂中水含量是否合适的依据是（）。A、产品PX的纯度B、产品PX的单程收率C、注水泵的注水量D、抽余液中水的含量
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