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混合床经过再生清洗开始制水时，出水电导率（）。

  • A、不变
  • B、下降极快
  • C、上升极快
  • D、下降极慢

参考答案

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考题 影响凝结水混床出水水质的因素有()。 A.再生前阴、阳树脂的分离成都;B.运行前阴、阳树脂的混合程度;C.再生剂的纯度;D.混床进水PH值。
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考题 浮动床与一般固定床相比()。A.需定期体外清洗B.再生剂消耗高、出水品质差C.再生时树脂容易乱层D.操作复杂
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考题 混床出水电导率高的原因有哪些？ 
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考题 电导率仪法测定水的电导率时，实验用水的电导率应小于1μS/cm，一般是蒸馏水再经过离子交换柱制得的纯水。
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考题 阳床未失效，阴床先失效，阴床出水水持（）。A、PH、电导率硅含量都升高；B、PH下降、电导率、硅含量升高；C、PH下降、电导率先下降后升高、硅含量升高；D、PH、电导率、硅含量都下降。
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考题 混床出水的电导率指标为（），混床出水的二氧化硅指标为（）。
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考题 在混合床离子交换器的运行过程中，主要监督电导率，含硅量和（）等出水水质指标。
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考题 混床再生后正洗水质（）μg/L，（）μS/cm，关进水门、正洗排水门，关电导率表取样门，硅表取样门，停电导率表、硅表，关进水、出水门，混床停为备用。
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考题 当混床出水水质SiO2大于（）电导率大于（）时，混床应停运再生。
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考题 化工化学水装置混床出水控制指标有（）。A、电导率＜0.5μs/cmB、电导率＜0.2μs/cmC、SiO2＜20μg/LD、SiO2＜50μg/L
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考题 化工化学水装置凝液阳床属（）床型。A、顺流再生固定床B、逆流再生固定床C、浮动床D、混合床
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考题 强碱性阴离子交换树脂被含有-COOH（羧基）基团的有机物污染，再生后阴床出水表现（）。A、清洗用水量增大、碱度大、电导率大B、清洗用水量减小、碱度大、电导率大C、清洗用水量增大、碱度小、电导率大D、清洗用水量减少、碱度大、电导率小
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考题 对单元制除盐制水系统，常通过监督阴床出水的（）来判断阳床失效。A、电导率升高B、HSiO3-含量增大C、pH值升高D、碱度增大
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考题 混合床再生后，混合后的树脂层要用除盐水以30m/h的流速进行正洗，直至出水电导率和硅酸含量合格。（）
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考题 浮动床运行周期，自床层失效算起，操作步骤为（）。A、进再生液-向上流清洗-落床-置换-向下流清洗-成床-运行B、进再生液-置换-向下流清洗-成床-向上流清洗-落床-运行C、落床-进再生液-向上流清洗-置换-向下流清洗-成床-运行D、落床-进再生液-置换-向下流清洗-成床-向上流清洗-运行
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考题 混床出水电导率大的原因（）。A、混床失效。B、混床再生不彻底。C、阳树脂装载量超过规定高度。D、底部水帽损坏。
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考题 混床出水水质PH（），电导率≤（）。
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考题 一级混合离子交换器出水导电度控制在（）μS/cm，二级混床出水电导率控制在（）μS/cm。
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考题 混床失效时，出水的电导率和二氧化硅含量同时升高。
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考题 动床与一般固定床相比（）。A、操作复杂B、需定期体外清洗C、再生时树脂容易乱层D、再生剂消耗高、出水品质差
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考题 浮动床再生后水由底部进入从上部排除的操作称为（）。A、再生B、置换C、反洗D、成床清洗
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考题 电导率仪法测定水的电导率时，实验用水的电导率应小于（）μS／cm，一般是蒸馏水再经过离子交换柱制得的纯水。
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考题 除盐设备运行中阴床反洗进水门未关严或泄漏时会造成（）后果。A、阴床出水PH值下降B、阴床出水PH值上升C、电导率上升D、电导率下降
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考题 多选题导致阴床出水电导率、碱度超标的原因有（）。A阳床失效；B进碱门未关严；C再生后置换不彻底；D阴床失效。
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考题 问答题怎样进行混合床体外再生的清洗操作？
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考题 填空题电导率仪法测定水的电导率时，实验用水的电导率应小于（）us/cm，一般是蒸馏水再经过离子交换柱制得的纯水。
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考题 单选题浮动床与一般固定床相比（）。A 需定期体外清洗B 再生剂消耗高、出水品质差C 再生时树脂容易乱层D 操作复杂
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