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微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。


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考题 微尺度加工通常是指零件尺寸很小,立足于微细加工方法和纳米加工技术,比如()。 A、光刻B、电子束C、离子束加工D、激光束加工

考题 微细机械加工的关键技术有哪些?() A.微系统建模技术B.微细加工技术C.微型机械组装和封装技术D.自组织成型工艺

考题 通常情况下,我们改变工艺条件使刻蚀进行中()的刻蚀速率尽量低。A、光刻胶B、衬底C、表面硅层D、扩散区E、源漏区

考题 ()是所有特种加工方法中最精密、最微细的加工方法,是当代毫微米加工(纳米加工)技术的基础。

考题 刻蚀工艺有哪两种类型?简单描述各类刻蚀工艺。

考题 有机性气体大多产生在下列哪道工艺()。A、离子注入B、刻蚀C、扩散D、光刻

考题 试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。

考题 实现超微图形成像的()技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。A、光刻B、刻蚀C、氧化D、溅射

考题 微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。A、干法刻蚀、湿法刻蚀B、离子束刻蚀、激光刻蚀C、溅射加工、直写加工D、以上都可以

考题 光刻和刻蚀的目的是什么?

考题 在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。A、刻蚀B、氧化C、淀积D、光刻

考题 硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()A、体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工B、体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工C、体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构

考题 下列不属于离子束加工技术的是()。A、离子束刻蚀B、离子束焊接C、离子注入技术D、离子束镀膜技术

考题 问答题二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?

考题 单选题微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。A a.离子束刻蚀、激光刻蚀B b.干法刻蚀、湿法刻蚀C c.溅射加工、直写加工

考题 单选题以下加工方法中,属于特种加工的是()A 精密抛光B 精密研磨C 超精密车削D 离子刻蚀

考题 单选题下列加工方法,能够进行光刻加工的加工方法是()A 电子束加工B 电解加工C 电火花加工D 超声加工

考题 问答题简述微细加工工艺方法。

考题 单选题实现超微图形成像的()技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。A 光刻B 刻蚀C 氧化D 溅射

考题 填空题集成电路制造工艺技术主要包括:热工艺、()、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

考题 单选题电子刻蚀加工主要是通过热效应对工件进行加工,而离子刻蚀加工主要是通过()效应对工件进行加工。A 撞击B 溅射C 注入D 撞击、溅射

考题 单选题硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。A a.体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工;B b.体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工;C c.体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构;

考题 问答题光刻和刻蚀的目的是什么?

考题 填空题微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。

考题 填空题()加工是目前特种加工工艺方法中最精密、最微细的加工方法。

考题 问答题什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。

考题 单选题离子束加工技术利用注入效应加工的是()A 离子束刻蚀B 溅射镀膜C 离子镀D 离子注入