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名词解释题
掩蔽剂

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考题 在分光光度法中，消除共存离子干扰的方法有A、用选择性好的显色剂和溶剂B、用选择性好的溶剂和掩蔽剂C、用选择性好的显色剂、控制反应溶液的pH或用掩蔽剂D、用掩蔽剂和控制反应的温度E、控制反应的温度和时间
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考题 氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。() 此题为判断题(对，错)。
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考题 利用掩蔽剂来()干扰离子的浓度,使之不与EDTA或指示剂络合,这种方法称掩蔽法。 A、降低B、升高C、不改变
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考题 常用的配位掩蔽剂有( ).( ).( )。
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考题 掩蔽剂的用量过量太多，被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。此题为判断题(对，错)。
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考题 由于维生素C注射液中加有适量的焦亚硫酸钠为稳定剂，焦亚硫酸钠具有还原性，会与碘滴定液发生氧化还原反应，导致含量测定结果偏高，为排除其干扰，可在滴定前加入适量的A、淀粉掩蔽剂B、醋酸掩蔽剂C、硫酸钠掩蔽剂D、丙酮掩蔽剂E、甲醇掩蔽剂
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考题 酒石酸钾钠是作为掩蔽金属离子的掩蔽剂参加测定的。此题为判断题(对，错)。
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考题 由于维生素C注射液中加有适量的焦亚硫酸钠为稳定剂，焦亚硫酸钠具有还原性，会与碘滴定液发生氧化还原反应，导致含量测定结果偏高，为排除其干扰，可在滴定前加入适量的A.淀粉掩蔽剂B.醋酸掩蔽剂C.硫酸钠掩蔽剂D.丙酮掩蔽剂E.甲醇掩蔽剂
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考题 注射剂中抗氧剂的排除采用加（）或甲醛为掩蔽剂。
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考题 在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是（）。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的
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考题 铁铵矾指示剂法.测定Cl－，未滤去沉淀，也未加掩蔽剂（）（）。
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考题 什么是掩蔽剂？我们常用的是什么？
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考题 碘量法测定铜时，加入KI的作用是（）。A、氧化剂  络合剂  掩蔽剂B、沉淀剂  指示剂  催化剂C、还原剂  沉淀剂  络合剂D、缓冲剂  络合掩蔽剂  预处理剂
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考题 薄膜衣物料组成有（）、溶剂、（）、着色剂和掩蔽剂等。
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考题 沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀的（）要小，否则掩蔽效果不好。A、稳定性B、还原性C、浓度D、溶解度
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考题 掩蔽剂的用量过量太多，被测离子也可能被掩蔽而引起误差。
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考题 配位滴定法中利用掩蔽剂掩蔽杂质离子的方法有（）、（）和（）。
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考题 当注射剂中含有NaHSO3，NaSO3等抗氧剂干扰测定时，可以采用（）A、加入丙酮做掩蔽剂B、加入甲酸做掩蔽剂C、加入甲醛做掩蔽剂D、加盐酸酸化，加热使分解E、加入氢氧化钠，加热使分解
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考题 络合掩蔽剂和沉淀掩蔽剂各应具备什么条件？
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考题 掩蔽剂
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考题 EDTA容量法测定氧化镁时，要求（），掩蔽剂为（）、（）。
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考题 简述采用掩蔽剂时应注意什么？
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考题 单选题丁二酮重量法测定钢中镍，用酒石酸掩蔽Fe3＋，Al3＋，Ti4＋等的干扰，用氨水调节溶液的PH，氨水、掩蔽体、沉淀剂加入的顺序是（）A 氨水、掩蔽体、沉淀剂B 掩蔽体、氨水、沉淀剂C 掩蔽体、沉淀剂、氨水D 无需考虑试剂加入顺序
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考题 单选题用指示剂（In），以EDTA（Y）滴定金属离子M时常加入掩蔽剂（X）消除某干扰离子（N）的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是（）。A KNX＜KNYB KNX＞＞KNYC KMX＜＜KMYD KMIn＞KMX
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考题 问答题配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件？
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考题 问答题络合掩蔽剂和沉淀掩蔽剂各应具备什么条件？
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考题 填空题薄膜衣物料组成有（）、溶剂、（）、着色剂和掩蔽剂等。
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