单选题

浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气，达到（）的目的。

A 增大光源波长；

B 减小光源波长；

C 减小光学系统数值孔径；

D 增大光学系统数值孔径。