网友您好, 请在下方输入框内输入要搜索的题目:

题目内容 (请给出正确答案)
判断题
先进集成电路加工中,主要采用投影式光刻曝光技术。
A

B


参考答案

参考解析
解析: 暂无解析
更多 “判断题先进集成电路加工中,主要采用投影式光刻曝光技术。A 对B 错” 相关考题
考题 解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?

考题 光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处?

考题 在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA

考题 下列有关曝光系统的说法正确的是()。A、投影式同接触式相比,掩模版的利用率比较高B、接触式的分辨率优于接近式C、接近式的分辨率受到衍射的影响D、投影式曝光系统中不会产生衍射现象E、投影式曝光是目前采用的主要曝光系统

考题 按曝光的光源分类,曝光可以分为()。A、光学曝光B、离子束曝光C、接近式曝光D、电子束曝光E、投影式曝光

考题 试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中,采用了背曝光为什么还要采用一次曝光?直接使用一次曝光不行吗?

考题 光刻加工的工艺过程为()A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

考题 在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。A、刻蚀B、氧化C、淀积D、光刻

考题 试述光刻加工的主要阶段?

考题 微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。

考题 光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()A、电子束曝光技术B、离子束曝光技术C、X射线曝光技术

考题 光刻加工主要用于()。A、加工超硬材料B、加工工程陶瓷C、制作集成电路D、制作微型模具

考题 问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?

考题 问答题光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处?

考题 填空题常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有()、()、()、()、()、()、()等。

考题 单选题光刻加工的工艺过程为:()A ①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

考题 单选题在较先进的集成电路制造工艺中,通常采()来实现掺杂。A 刻蚀B 离子注入C 光刻D 金属化

考题 判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。A 对B 错

考题 填空题集成电路制造工艺技术主要包括:热工艺、()、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

考题 判断题曝光波长的缩短可以使光刻分辨率线性提高,但同时会使焦深线性减小。如果增大投影物镜的数值孔径,那么在提高光刻分辨率的同时,投影物镜的焦深也会急剧减小,因此在分辨率和焦深之间必须折衷。A 对B 错

考题 填空题光刻的图形曝光方式有:接触式曝光、接近式曝光和()曝光。

考题 问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。

考题 问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻,每次光刻目的是什么?

考题 单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()。A 电子束曝光技术B 离子束曝光技术C X射线曝光技术

考题 填空题微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。

考题 单选题光刻加工主要用于()。A 加工超硬材料B 加工工程陶瓷C 制作集成电路D 制作微型模具

考题 问答题什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。