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判断题
先进集成电路加工中,主要采用投影式光刻曝光技术。
A
对
B
错
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解析:
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考题
下列有关曝光系统的说法正确的是()。A、投影式同接触式相比,掩模版的利用率比较高B、接触式的分辨率优于接近式C、接近式的分辨率受到衍射的影响D、投影式曝光系统中不会产生衍射现象E、投影式曝光是目前采用的主要曝光系统
考题
判断题曝光波长的缩短可以使光刻分辨率线性提高,但同时会使焦深线性减小。如果增大投影物镜的数值孔径,那么在提高光刻分辨率的同时,投影物镜的焦深也会急剧减小,因此在分辨率和焦深之间必须折衷。A
对B
错
考题
问答题什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。
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