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问答题
Poly(多晶硅)栅极形成的步骤大致可分为那些?
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考题
真核生物mRNA合成后()。A、5’端有poly(A)结构B、原先5’端无poly(A)结构,加工后才形成这种结构C、加工后,3’-端形成帽子结构D、经加工,在5’-端形成帽子结构E、不需加工
考题
单选题真核生物mRNA合成后()。A
5’端有poly(A)结构B
原先5’端无poly(A)结构,加工后才形成这种结构C
加工后,3’-端形成帽子结构D
经加工,在5’-端形成帽子结构E
不需加工
考题
问答题简述沉积多晶硅采用什么CVD工具?掺杂的Poly-Si的主要用途。写出掺杂的Poly-Si做栅电极的6个原因。
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