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问答题
简述3.0μm CMOS集成电路工艺技术工艺流程。
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考题
把构成门电路的基本元件制作在一小片半导体芯片上,就构成集成电路,根据制造工艺的不同,把数字集成电路分为哪两种。()A、双极性集成电路B、TTL集成电路C、CMOS集成电路D、单极性集成电路
考题
单选题在处理工艺流程中,滤池至清水池的允许流速为()A
0.5-1.0m/sB
1.0-1.5m/sC
2.0-2.5m/sD
3.0-3.5m/s
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