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名词解释题
二次曝光法
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考题
采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。
A.比标准曝光时间减少1/5的时间B.比标准曝光时间增加1/5的时间C.比标准曝光时间减少1/2的时间D.比标准曝光时间增加1/2的时间
考题
屏/片系统调制传递函数的测试方法是A.方波测试卡曝光/微密度计扫描法B.狭缝曝光/微密度计扫描法C.刃边曝光/微密度计扫描法D.感光仪曝光/微密度计扫描法E.时间阶段曝光法/微密度计扫描法
考题
屏一片系统调制传递函数的测试方法是A.方波测试卡曝光,微密度计扫描法B.狭缝曝光,微密度计扫描法C.刃边曝光,微密度计扫描法D.感光仪曝光,微密度计扫描法E.时间阶段曝光法,微密度计扫描法
考题
X线阶段曝光测定法的叙述,错误的是()。A、时间阶段曝光法改变曝光时间取得照射量B、时间阶段曝光法X线质固定C、自举法用铝梯厚度改变X线强度D、铝梯下加一层0.5mm厚的铅片E、存在间歇效应的影响
考题
采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。A、比标准曝光时间减少1/5的时间B、比标准曝光时间增加1/5的时间C、比标准曝光时间减少1/2的时间D、比标准曝光时间增加1/2的时间
考题
判断题阳图型PS版防止除脏曝光过度,可减少二次曝光时间。A
对B
错
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