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试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
参考答案
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考题
X线机中设置容量保护电路的目的是A．防止摄影时阳极未达到额定转速而曝光B．防止摄影时阳极未启动而曝光C．防止一次性超容量曝光，保护高压变压器D．防止一次性超容量曝光，保护X线管E．防止积累性超容量曝光，保护X线管
考题
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
考题
在曝光因子的公式中，背电流、曝光时间和焦距三者的关系是（）。A、管电流不变，背电流与焦距的平方成反比B、管电流不变，时间与焦距的平方成正比C、焦距不变，管电流与曝光时间成正比D、曝光时间不变，管电流与焦距成正比
考题
X线管容量是指X线管在安全使用条件下能承受的最大负荷量，是一次负荷的安全性。即在确定曝光时间下所能允许使用的最大曝光条件－管电压和管电流。X线机中设置容量保护电路就是为了防止一次性超负荷曝光。X线管的容量（Pa）与管电压的有效值、管电流的有效值成正比。X线管的容量还与设备高压整流方式和曝光时间有关。X线发生时，绝大部分电能转化为热量。X线机中设置容量保护电路的目的是（）A、防止摄影时灯丝未加热而曝光保护X线管B、防止X线管过热状态下曝光，保护X线管C、防止超热容量指标曝光，保护X线管D、防止一次性超负荷曝光，保护X线管E、防止一次性超负荷曝光，保护高压变压器
考题
单选题在曝光因子的公式中，背电流、曝光时间和焦距三者的关系是（）。A
管电流不变，背电流与焦距的平方成反比B
管电流不变，时间与焦距的平方成正比C
焦距不变，管电流与曝光时间成正比D
曝光时间不变，管电流与焦距成正比
考题
单选题X线机中设置容量保护电路的目的是（ ）。A
防止摄影时阳极未达到额定转速而曝光B
防止摄影时阳极未启动而曝光C
防止一次性超容量曝光，保护高压变压器D
防止一次性超容量曝光，保护X线管E
防止积累性超容量曝光，保护X线管
考题
单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。A
电子束曝光技术B
离子束曝光技术C
X射线曝光技术
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