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问答题
简述集成电路制造中的四种隔离技术

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考题 ()是多媒体技术中的核心技术。A.多媒体数据压缩和编码技术B.大容量数据存储技术C.大规模集成电路制造技术D.实时多任务操作系统

考题 当前集成电路中最流行的制造技术有()。 A、DTL技术B、TTL技术C、CMOS技术D、继电器技术

考题 微电子技术特别是集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路的叙述中错误的是()。A.集成电路的集成度指的是单个集成电路所含电子元件(如晶体管、电阻、电容等)的数目多少B.根据集成度的高低,集成电路可以分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等几种C.嵌入式系统中使用的处理器芯片属于大规模集成电路D.集成电路的制造工艺复杂且技术难度非常高,许多工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成

考题 集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路技术发展的叙述中,错误的是:()。A.单块集成电路的集成度平均每18~24个月翻一番B.集成电路的工作频率越来越高,功耗越来越低C.当前集成电路批量生产的主流技术已经达到45nm、32nm甚至更小的工艺水平D.集成电路批量生产使用的晶圆直径已经达到12~14英寸甚至更大

考题 简述RTP在集成电路制造中的常见应用。

考题 在大规模集成电路的制造中,更多采用的是MOS工艺集成电路,而不是双极型集成电路。

考题 下列属于多媒体的关键技术是()。A、数据压缩技术B、多媒体数据存储技术C、大规模集成电路制造技术D、多媒体网络通信技术

考题 大规模集成电路制造技术属于多媒体的关键技术。()

考题 按制造工艺集成电路分为()。A、半导体集成电路B、TTL集成电路C、厚膜集成电路D、薄膜集成电路E、CMOS集成电路

考题 微电子技术是现代信息技术的基础之一,而微电子技术又以集成电路为核心。下列关于集成电路的叙述中,错误的是()A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路均使用半导体硅材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 MC的相关技术包括设计、制造、()和信息四种相关技术。

考题 下列说法中错误的是()A、微电子技术以集成电路为核心B、硅是微电子产业中常用的半导体材料C、现代微电子技术已经用砷化镓取代了硅D、制造集成电路都需要使用半导体材料

考题 下列关于电子产业说法中错误的是()A、微电子技术以集成电路为核心B、硅是微电子产业中常用的半导体材料C、现代微电子技术已经用砷化镓取代了硅D、制造集成电路都需要使用半导体材料

考题 线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中线宽为()。A、几个微米B、几个纳米C、50纳米左右D、100纳米左右

考题 计算机板卡上的集成电路器件多采用MOS技术制造。

考题 判断题大规模集成电路制造技术属于多媒体的关键技术。()A 对B 错

考题 单选题线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中线宽为()。A 几个微米B 几个纳米C 50纳米左右D 100纳米左右

考题 问答题列举两种集成电路制造中的器件隔离结构,并比较其优缺点。

考题 单选题微电子技术是指以集成电路技术为代表,制造和使用微小型电子元件、器件和电路,实现电子系统功能的新型技术学科,它也特指()的制造和运用技术。A 数据仓库B 计算机软件C 信息资源D 大规模集成电路

考题 问答题简述先进的0.18μmCMOS集成电路工艺技术工艺步骤。

考题 问答题简述集成电路制造流程。

考题 单选题微电子技术是现代信息技术的基础之一,而微电子技术又以集成电路为核心。下列关于集成电路的叙述中,错误的是()A 集成电路是上世纪50年代出现的B 集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C 集成电路均使用半导体硅材料D 集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 判断题集成电路制造工艺中隔离扩散的深度可以不超过外延层的厚度。A 对B 错

考题 单选题在集成电路加工制造中,通常所指前道工艺为()A 集成电路制造(晶圆加工)B 集成电路封装C 集成电路测试D 集成电路设计

考题 单选题现代集成电路制造工艺中,主流掺杂技术为()A 扩散B 化学机械抛光C 刻蚀D 离子注入

考题 判断题计算机板卡上的集成电路器件多采用MOS技术制造。A 对B 错

考题 问答题集成电路制造工艺中,主要有哪两种隔离工艺?目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺,为什么?