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化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。

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考题 在ITO玻璃清洗的过程中，使用碱性液清洗的目的主要是除去（）。A、有机物B、油污C、颗粒杂质
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考题 化学清洗可以清除多数物理清洗不易除去的硬垢和腐蚀产物，特点是费时省工。
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考题 陈化过程可以除去由吸咐和吸留引入的杂质离子，但不能除去由混晶共沉淀带入的杂质离子。（）
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考题 洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质。
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考题 陈化可增大晶体颗粒，并能除去被吸留的杂质。
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考题 清洗是通过物理、化学方法却除清洗表面可见杂质的过程。
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考题 风选是根据药物和杂质体积大小不同，借风力将杂质除去。
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考题 硝酸镁沉降再生的目的是（）。A、除去积累在硝酸镁溶液中的杂质B、提高蒸汽分压C、提高其脱水能力D、提高硝酸镁浓度
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考题 晶体中吸藏的杂质和晶格中的有机溶剂可以通过（）的方式除去。
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