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未经过硫化处理的新触媒和经过硫化处理的新触媒在相同“饱和”操作条件下放出的热量大小基本相等。
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考题
新触媒其内部都含有一定的水份,这部分水份若不除去,会影响触媒的强度,所以新触媒升温一般在120℃以下,都控制升温速率比较慢,且在120℃时还要恒温一段时间,以使触媒的吸附水全部释放出来,若是旧触媒升温速率还可快一些
考题
触媒升温还原时为什么一定要控制升温速度,快一点不更好吗()A、新触媒其内部都含有一定的水份,这部分水份若不除去,会影响触媒的强度,所以新触媒升温一般在120℃以下,都控制升温速率比较慢,且在120℃时还要恒温一段时间B、在触媒还原阶段,也要控制一定的升温速率,这是为了使触媒还原均匀彻底,若升温过快,触媒活性会受到影响C、触媒升温还原一定要快D、对于设备和管道若升温速率过快,会使其强度下降,寿命缩短。温升速度快一些,不会立即显示出什么坏处来,但从长远看,不利于设备及触媒的使用寿命
考题
进转化工段焦炉气总硫为什么必须控制在0.1PPm以下()A、因为合成触媒和甲烷化触媒昂贵,对入口硫含量要求苛刻B、若ZnO槽出口总硫过高,不会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性C、若ZnO槽出口总硫过高,必然会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性D、总硫高不会造成重大经济损失
考题
因为合成触媒和甲烷化触媒昂贵,对入口硫含量要求苛刻,若ZnO槽出口总硫过高,必然会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性,从而造成重大经济损失,所以必须控制ZnO槽出口总硫在0.2PPm以下
考题
问答题怎样判断铁钼触媒达到饱和?如何处理?
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