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乳磨牙龋坏制备洞形时,哪项不正确
A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形,不必扩展
B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形
C.为避免意外穿髓不必强调底平
D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝
E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点
B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形
C.为避免意外穿髓不必强调底平
D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝
E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点
参考答案
参考解析
解析:
更多 “乳磨牙龋坏制备洞形时,哪项不正确A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形,不必扩展 B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形 C.为避免意外穿髓不必强调底平 D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝 E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点” 相关考题
考题
龋洞的分类正确的是( )A.Ⅰ类洞:发生在局部牙面发育点隙裂沟的龋损所制备的洞形B.Ⅱ类洞:发生于前牙邻面的龋损所制备的洞形C.Ⅲ类洞:前牙邻面未累及切角的龋损所制备的洞形D.Ⅳ类洞:磨牙邻面累及切角的龋损所制备的洞形
考题
根据 G、V、Black 的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的()A.Ⅰ类洞是单面洞B.Ⅱ类洞是复杂洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇颊侧 舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形
考题
根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞B.Ⅱ类洞都是复面洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形
考题
根据G.V.Black的窝洞分类,正确的是()
A.一类洞是单面洞B.二类洞是复杂洞C.一类洞是窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.三类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.五类洞是后牙唇颊侧、舌腭侧近龈1/3处被破坏所制备的洞形
考题
乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确A.牙合面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C.为避免意外穿髓不必强调底平D.洞要有一定深度,线角要圆钝E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点
考题
乳牙的嵌体修复法适用于
A.乳磨牙Ⅰ类复合洞形和Ⅱ类复合洞形
B.乳磨牙Ⅱ类复合洞形和Ⅲ类复合洞形
C.乳磨牙Ⅲ类复合洞形和Ⅳ类复合洞形
D.乳磨牙Ⅳ类复合洞形和Ⅴ类复合洞形
E.乳磨牙Ⅴ类复合洞形和Ⅰ类复合洞形
考题
根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪项是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞
B.Ⅱ类洞都是复面洞
C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形
D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形
E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形
考题
乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确()A、面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B、单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C、为避免意外穿髓不必强调底平D、洞要有一定深度,线角要圆钝E、乳牙不用恢复咬合高度和接触点
考题
直接盖髓术正确的操作步骤是()。A、制备洞形→放置盖髓剂→去除龋坏→充填B、去除龋坏→制备洞形→放置盖髓剂→疗效观察C、去除龋坏→放置盖髓剂→充填D、去除龋坏→切除冠髓→放置盖髓剂→永久充填E、制备洞形→去除龋坏→放置盖髓剂→疗效观察
考题
单选题直接盖髓术正确的操作步骤是()。A
制备洞形→放置盖髓剂→去除龋坏→充填B
去除龋坏→制备洞形→放置盖髓剂→疗效观察C
去除龋坏→放置盖髓剂→充填D
去除龋坏→切除冠髓→放置盖髓剂→永久充填E
制备洞形→去除龋坏→放置盖髓剂→疗效观察
考题
单选题根据Black GV的窝洞分类方法,下列哪项是正确的?( )A
I类洞是单面洞B
Ⅱ类洞是复杂洞C
I类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D
Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E
V类洞是后牙唇颊侧舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形
考题
单选题下述哪一项不属于嵌体牙体制备的基本要求?( )A
去除龋坏腐质B
洞壁制备倒凹C
洞缘制备斜面D
固位力不足应利用辅助固位形E
邻面可做片切形
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