网友您好, 请在下方输入框内输入要搜索的题目:

题目内容 (请给出正确答案)
乳磨牙龋坏制备洞形时,哪项不正确

A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形,不必扩展
B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形
C.为避免意外穿髓不必强调底平
D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝
E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点

参考答案

参考解析
解析:
更多 “乳磨牙龋坏制备洞形时,哪项不正确A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形,不必扩展 B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形 C.为避免意外穿髓不必强调底平 D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝 E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点” 相关考题
考题 以下属于窝洞制备的步骤的是A、扩大开口进入龋洞B、设计并制备洞形C、检查、修整、清洁窝洞D、去除龋坏牙本质E、以上均包括

考题 龋洞的分类正确的是( )A.Ⅰ类洞:发生在局部牙面发育点隙裂沟的龋损所制备的洞形B.Ⅱ类洞:发生于前牙邻面的龋损所制备的洞形C.Ⅲ类洞:前牙邻面未累及切角的龋损所制备的洞形D.Ⅳ类洞:磨牙邻面累及切角的龋损所制备的洞形

考题 根据 G、V、Black 的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的()A.Ⅰ类洞是单面洞B.Ⅱ类洞是复杂洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇颊侧 舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形

考题 下列哪一项不是嵌体制备的基本要求A.去除龋坏组织B.邻面可做片切形C.固位力不足应该利用辅助固位形D.洞缘制备短斜面E.洞壁制备倒凹

考题 上颌磨牙舌面点隙窝洞制备要求 A、去净龋坏牙本质B、可制成单面洞形C、对固位要求不高D、对抗力要求不高E、龋损大做鸠尾形

考题 去除龋坏组织制备洞形后,窝洞消毒应使用A.樟脑酚 B.甲醛甲酚 C.95%酒精SXB 去除龋坏组织制备洞形后,窝洞消毒应使用A.樟脑酚B.甲醛甲酚C.95%酒精D.木馏油E.复方碘剂

考题 根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞B.Ⅱ类洞都是复面洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形

考题 根据G.V.Black的窝洞分类,正确的是() A.一类洞是单面洞B.二类洞是复杂洞C.一类洞是窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.三类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.五类洞是后牙唇颊侧、舌腭侧近龈1/3处被破坏所制备的洞形

考题 乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确A.牙合面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C.为避免意外穿髓不必强调底平D.洞要有一定深度,线角要圆钝E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点

考题 2腭面龋坏所制备的窝洞类型是A.I类洞B.Ⅱ类洞C.Ⅲ类洞D.Ⅳ类洞 2腭面龋坏所制备的窝洞类型是A.I类洞B.Ⅱ类洞C.Ⅲ类洞D.Ⅳ类洞E.V类洞

考题 乳牙的嵌体修复法适用于 A.乳磨牙Ⅰ类复合洞形和Ⅱ类复合洞形 B.乳磨牙Ⅱ类复合洞形和Ⅲ类复合洞形 C.乳磨牙Ⅲ类复合洞形和Ⅳ类复合洞形 D.乳磨牙Ⅳ类复合洞形和Ⅴ类复合洞形 E.乳磨牙Ⅴ类复合洞形和Ⅰ类复合洞形

考题 根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪项是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞 B.Ⅱ类洞都是复面洞 C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形 D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形 E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形

考题 患者左上第一磨牙缺失,左上第二磨牙近中颈部龋洞,诊断为中龋,其制备的洞形为A.邻面的单面洞 B.邻面洞 C.邻邻面洞 D.邻舌面洞 E.邻颊面洞

考题 后牙邻面龋坏制备的单面洞()A、Ⅰ类洞B、Ⅱ类洞C、Ⅲ类洞D、Ⅳ类洞E、Ⅴ类洞

考题 患者左上第一磨牙缺失,左上第二磨牙近中颈部龋洞,诊断为中龋,其制备的洞形为()A、邻牙合面的单面洞B、邻牙合面洞C、邻邻面洞D、邻舌面洞E、邻颊面洞

考题 关于制洞的基本原则,下列叙述正确的是( )。A、必须去净龋坏组织B、必须作潜凹C、必须保护牙髓D、必须制备抗力形E、必须制备固位形

考题 乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确()A、面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B、单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C、为避免意外穿髓不必强调底平D、洞要有一定深度,线角要圆钝E、乳牙不用恢复咬合高度和接触点

考题 下列哪一项不是嵌体制备的基本要求()。A、去除龋坏组织B、邻面可做片切形C、固位力不足应该利用辅助固位形D、洞缘制备短斜面E、洞壁制备倒凹

考题 直接盖髓术正确的操作步骤是()。A、制备洞形→放置盖髓剂→去除龋坏→充填B、去除龋坏→制备洞形→放置盖髓剂→疗效观察C、去除龋坏→放置盖髓剂→充填D、去除龋坏→切除冠髓→放置盖髓剂→永久充填E、制备洞形→去除龋坏→放置盖髓剂→疗效观察

考题 配伍题左上6颊侧点隙及面窝沟龋坏制备颊复合洞( )|左上2舌侧窝沟龋坏制备的洞型( )|后牙邻面龋坏制备的单面洞( )AⅠ类洞BⅡ类洞CⅢ类洞DⅣ类洞EⅤ类洞

考题 单选题若右上第二磨牙的龋洞位于近中面,未损及验边缘,且第一磨牙缺失,制备的洞形属于(  )。A Ⅰ类洞B Ⅱ类洞C Ⅲ类洞D Ⅳ类洞E V类洞

考题 单选题下列哪一项不是嵌体制备的基本要求()。A 去除龋坏组织B 邻面可做片切形C 固位力不足应该利用辅助固位形D 洞缘制备短斜面E 洞壁制备倒凹

考题 单选题直接盖髓术正确的操作步骤是()。A 制备洞形→放置盖髓剂→去除龋坏→充填B 去除龋坏→制备洞形→放置盖髓剂→疗效观察C 去除龋坏→放置盖髓剂→充填D 去除龋坏→切除冠髓→放置盖髓剂→永久充填E 制备洞形→去除龋坏→放置盖髓剂→疗效观察

考题 单选题上颌磨牙舌面点隙窝洞制备要求不包括(  )。A 去净龋坏牙本质B 可制成单面洞形C 对固位要求不高D 对抗力要求不高E 龋损大做鸠尾形

考题 单选题根据Black GV的窝洞分类方法,下列哪项是正确的?(  )A I类洞是单面洞B Ⅱ类洞是复杂洞C I类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E V类洞是后牙唇颊侧舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形

考题 单选题患者左上第一磨牙缺失,左上第二磨牙近中颈部龋洞,诊断为中龋,其制备的洞形为()A 邻牙合面的单面洞B 邻牙合面洞C 邻邻面洞D 邻舌面洞E 邻颊面洞

考题 单选题下述哪一项不属于嵌体牙体制备的基本要求?(  )A 去除龋坏腐质B 洞壁制备倒凹C 洞缘制备斜面D 固位力不足应利用辅助固位形E 邻面可做片切形