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上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求（）
- A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离
- B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离
- C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离
- D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离
- E、腭杆中部与模型应完全贴合
参考答案
更多 “上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求（）A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E、腭杆中部与模型应完全贴合” 相关考题
考题
上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E、腭杆中部与模型应完全贴合
考题
患者，男，876|678缺失，余牙正常，可摘局部义齿修复，54|45为基牙，弯制成品牙腭杆连接。后腭杆的两端位于A、54|45之间B、65|56之间C、76|67之间D、87|78之间E、位于颤动线该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是A、腭杆离开模型2mmB、腭杆与模型贴合C、腭杆离开模型0.2mmD、腭杆离开模型0.5～1mmE、腭杆离开模型1.5mm杆的两端，进入基托连接部分的要求，下列哪项是错误的A、连接部分要磨薄B、连接部分表面要粗糙，不宜太光滑C、连接部分边缘要磨成齿状D、连接部分与模型贴合E、连接部分应形成内外接合线
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.腭杆组织面缓冲
B.取下腭杆
C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
D.不做处理，让患者把义齿戴走
E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
考题
男59岁，7543|567缺失，余留牙正常。要求做整铸支架，6设计对半卡环，用前腭杆，后腭杆和侧腭杆连接前腭杆的位置（）。A、上颌硬区的中部，距离余留牙4mmB、上颌硬区的中部，距离余留牙5mmC、上颌硬区的中部，距离余留牙≥6mmD、上颌硬区的前部，前缘距离余留牙龈缘4mmE、上颌硬区的前部，前缘距离余留牙龈缘≥6mm
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求（ ）。A
腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B
腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C
腭杆中部与模型应有0.1mm距离D
腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E
腭杆中部与模型应完全贴合
考题
单选题该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是（ ）。A
腭杆离开模型2mmB
腭杆与模型贴合C
腭杆离开模型0.2mmD
腭杆离开模型0.5～1mmE
腭杆离开模型1.5mm
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