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TISAB除了掩蔽干扰离子外,还可以()、()


参考答案

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考题 在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。 A、控制酸度,降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度,降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度

考题 为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽分为()、()、()。

考题 利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。

考题 用标准曲线法测F-,在试样和标准溶液中加入TISAB的作用是()A、保持离子强度一致B、掩蔽干扰离子C、控制pHD、以上三者都包括

考题 络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生()反应、()反应和氧化还原反应,以消除干扰。

考题 在分析分离过程中常有干扰物质的存在,利用()可将干扰离子浓度减小,甚至使干扰离子浓度低至不足以参加反应的量极微,就可以消除该离子的干扰。A、掩蔽剂B、解蔽剂C、隐蔽剂

考题 直接电位法中常加入TISAB,下列因素与TISAB作用无关的是()A、固定溶液的离子强度B、恒定溶液的酸度C、掩蔽干扰离子D、消除液接电位

考题 以下关于在直接测定自来水和其他介质中氟的总浓度时所用的TISAB的作用描述,错误的是()。A、改变待测离子浓度B、掩蔽干扰离子C、调节溶液的pHD、恒定总离子强度

考题 在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力

考题 共存离子干扰的消除方法不包括()。A、分步测定B、控制溶液的酸度C、掩蔽干扰离子D、改变干扰离子的价态

考题 配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断

考题 氧化还原掩蔽法是利用氧化还原反应,改变干扰离子价态,达到消除干扰的目的。

考题 在测定硬度时,若有铁离子干扰,应采用()消除干扰。A、络合掩蔽法B、沉淀掩蔽法C、控制溶液的pH值D、解蔽法

考题 掩蔽干扰离子的方法有哪些?

考题 总离子强度调节剂(TISAB)的作用保持较大且稳定的(),使活度系数恒定、维持溶液在适宜的pH范围内,满足离子电极的要求、掩蔽干扰()。

考题 测定某一含氟离子的试液中的氟,所使用的TISAB中含有NaCl、HAC-NaAC和柠檬酸钠,其作用是()A、控制试液的总离子强度B、控制试液的pH值C、掩蔽试液中的某些干扰离子D、减少正、负离子的扩散电位E、消除不对称电位

考题 掩蔽剂是指种能干扰离子起作用,而不影响()的试剂。

考题 常用的掩蔽干扰离子的方法有哪些?如何选择合适的掩蔽剂?

考题 单选题在分析分离过程中常有干扰物质的存在,利用()可将干扰离子浓度减小,甚至使干扰离子浓度低至不足以参加反应的量极微,就可以消除该离子的干扰。A 掩蔽剂B 解蔽剂C 隐蔽剂

考题 单选题在测定硬度时,若有铁离子干扰,应采用()消除干扰。A 络合掩蔽法B 沉淀掩蔽法C 控制溶液的pH值D 解蔽法

考题 多选题测定某一含氟离子的试液中的氟,所使用的TISAB中含有NaCl、HAC-NaAC和柠檬酸钠,其作用是()A控制试液的总离子强度B控制试液的pH值C掩蔽试液中的某些干扰离子D减少正、负离子的扩散电位E消除不对称电位

考题 单选题用标准曲线法测F-,在试样和标准溶液中加入TISAB的作用是()A 保持离子强度一致B 掩蔽干扰离子C 控制pHD 以上三者都包括

考题 多选题为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽法分为()。A络合掩蔽;B沉淀掩蔽;C氧化-还原掩蔽;D滴定掩蔽。

考题 填空题TISAB除了掩蔽干扰离子外,还可以()、()

考题 单选题直接电位法中常加入TISAB,下列因素与TISAB作用无关的是()A 固定溶液的离子强度B 恒定溶液的酸度C 掩蔽干扰离子D 消除液接电位

考题 填空题双硫腙分光光度法测定汞含量时,在pH8.5~9.0时,加入()可以掩蔽铜、汞、锌等离子的干扰;加入()可排除铁离子的干扰。

考题 问答题掩蔽干扰离子的方法有哪些?