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7、PECVD就是利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的CVD技术。
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考题
利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)
考题
单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A
物理气相沉积(PVD)B
物理气相沉积(CVD)C
化学气相沉积(VCD)D
化学气相沉积(CVD)
考题
填空题等离子体放电烧结过程中对参数的控制包括()、()、升温速率、压力、保温时间。
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