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6、利用高能氩离子轰击靶材，靶材原子被撞击，脱离出来，在硅片表面形成薄膜的工艺过程是

参考答案和解析
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考题 喷丸过程是靶材表面发生循环塑性变形的过程,也就是靶材表面()变化的过程。 A、完整性B、应力情况C、表面结构D、残余压应力
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考题 喷丸过程是靶材表面发生循环塑性变形的过程,也就是靶材表面完整性变化的过程。() 此题为判断题(对，错)。
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考题 薄膜衣中加入增塑剂的机制为A、提高衣层的柔韧性，增加其抗撞击的强度B、降低膜材的流动C、降低膜材的晶型转变温度D、增加膜材的表观黏度E、使膜材具有挥发性
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考题 XX射线是由高速运动的电子流或其他高能辐射流(γγ射线、中子流等)流与其他物质发生碰撞时骤然减速,且与该物质中的()相互作用而产生的。 A.靶材B.内层原子C.外层原子D.原子核
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考题 常见的阳极靶材有:Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、Ag、WW。其中,最常用的是()靶。 A.FeB.CuC.WD.Cr
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考题 溅射法是由（）轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。A、电子B、中性粒子C、带能离子
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考题 一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。A、产生一个离子并导向靶B、被轰击的原子向硅晶片运动C、离子把靶上的原子轰出来D、经过加速电场加速E、原子在硅晶片表面凝结
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考题 下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗（）。A、薄膜沉积B、薄膜成长C、蒸发D、溅射
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考题 薄膜衣中加入增塑剂的机制是（）A、提高衣层的柔韧性，增加其抗撞击的强度B、降低膜材的晶型转变温度C、降低膜材的流动性D、增加膜材的表观黏度
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考题 决定X射线管靶材适用性的两个因素是（）A、拉伸强度和倔强强度B、硬度和磁导度C、电阻和抗氧化性能D、原子序数和熔点
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考题 X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于（）A、靶材的原子序数B、管电压C、管电流D、灯丝电压
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考题 标识X射线的波长与（）有关A、靶材B、管电流C、管电压
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考题 Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）A、靶材的原子序数B、管电压C、.管电流D、灯丝电流
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考题 X射线管中高能电子在撞击靶的过程中，极大部分的电子动能转化成热能，因此，阳极靶的温度非常高，必须用冷却水冷却。冷却靶用的水必须是高纯水。
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考题 用于医疗诊断方面的X射线管，其阳极靶较厚，称厚靶X射线管。当高能电子轰击靶面时，由于原子结构的“空虚性”，入射的高速电子不仅与靶面原子相互作用辐射X射线，而且还穿透到靶物质内部一定的深度，不断地与靶原子作用，直至将电子的能量耗尽为止。因此，除了靶表面辐射X射线外，在靶的深层，也能向外辐射X射线。这种愈靠近阳极，X射线强度下降愈多的现象，就是所谓的“足跟”效应，也称阳极效应。由于诊断X射线管靶倾角小，X射线能量不高，足跟效应非常显著。X射线辐射强度下降得越多越靠近（）A、阳极B、阴极C、中心线D、球管E、床面
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考题 只有当X射线管的（）超过靶材临界激发电势时，才出现靶材的（）光谱。A、管电流B、管电压C、管功率D、特征
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考题 阳极靶被电子撞击的部分叫（）。
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考题 决定Χ射线管靶材适用性的两个因素是（）。A、拉伸强度和屈服强度B、焦点和磁强度C、电阻和抗氧化性能D、原子序数和熔点
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考题 （）专指薄膜形成的过程中，并不消耗晶片或底材的材质。A、薄膜成长B、蒸发C、薄膜沉积D、溅射E、以上都正确
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考题 微囊在靶区的浓集主要取决于囊材的性质，而与微囊的大小无关。
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考题 工业X射线照相用的X射线管多数选用钨作靶材的原因主要是（）A、来源方便B、价格低廉C、密度大D、熔点高E、原子序数大
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考题 标识X射线的波长与（）有关。A、阳极靶材B、管电流C、管电压
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考题 单选题薄膜衣中加入增塑剂的机制是（）A 提高衣层的柔韧性，增加其抗撞击的强度B 降低膜材的晶型转变温度C 降低膜材的流动性D 增加膜材的表观黏度
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考题 单选题Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）A 靶材的原子序数B 管电压C 管电流D 灯丝电流
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考题 单选题标识X射线的波长与（）有关A 靶材B 管电流C 管电压
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考题 单选题薄膜衣中加入增塑剂的机制为（）A 提高衣层的柔韧性，增加其抗撞击的强度B 降低膜材的流动C 降低膜材的晶型转变温度D 增加膜材的表观黏度E 使膜材具有挥发性
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考题 单选题Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）A 靶材的原子序数B 管电压C .管电流D 灯丝电流
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考题 单选题X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于（）A 靶材的原子序数B 管电压C 管电流D 灯丝电压
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