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以下参数中离子型表面活性剂特性的参数是
A:昙点
B:MCC
C:CRH
D:krafft点
E:CMC
B:MCC
C:CRH
D:krafft点
E:CMC
参考答案
参考解析
解析:本题考查表面活性剂的基本性质。昙点、CMC(临界胶束浓度)、HLB值是表面活性剂的基本性质。MCC代表微晶纤维素,CRH临界相对湿度。Krafft点是离子型表面活性剂特性的参数。故本题答案应选D。
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考题
有关表面活性剂的叙述错误的是A、表面活性剂可增加药物吸收,也可降低药物吸收B、表面活性剂毒性大小:一般阳离子型>阴离子型>非离子型C、非离子表面活性剂的HLB具有加和性D、krafft点是离子型表面活性剂的特征值,是离子型表面活性剂应用温度的上限E、在表面活性剂中,O/W型乳化剂比W/O型乳化剂的HLB值高
考题
在表面活性剂中,一般毒性最小的是 ( ) A.阴离子型表面活性剂B.阳离子型表面活性剂S
在表面活性剂中,一般毒性最小的是 ( )A.阴离子型表面活性剂B.阳离子型表面活性剂C.氨基酸型两性离子表面活性剂D.甜菜碱型两性离子表面活性剂E.非离子型表面活性剂
考题
配伍题(1).()杀菌作用强的是 |(2).()起泡、去污作用好的是 |(3).()有起昙现象的是 |(4).()在酸性介质中呈阳离子型表面活性剂的性质A阴离子型表面活性剂B阳离子表面活性剂C非离子型表面活性剂D两性离子型表面活性剂
考题
单选题起昙现象是()A
所有表面活性剂的一种特性B
非离子型表面活性剂的一种特性C
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阴离子型表面活性剂的特性E
两性离子型表面活性剂的特性
考题
多选题影响等离子体蚀刻特性好坏的因素包括以下几个方面()。A等离子体蚀刻系统的形态B等离子体蚀刻的参数C光刻胶D待蚀刻薄膜的淀积参数条件
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