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50、下列光源中,最容易产生小光比效果的是______。
A.侧角度光源
B.正角度光源
C.水平角度光源
D.垂直角度光源
参考答案和解析
正角度光源;水平角度光源
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考题
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考题
单选题浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气,达到()的目的。A
增大光源波长;B
减小光源波长;C
减小光学系统数值孔径;D
增大光学系统数值孔径。
考题
单选题工件表面形状不同时,对耦合效果将产生不同影响,下面的说法中()是正确的。A
平面最好,凸曲面居中,凹曲面效果最差B
凹曲面最好,平面居中,凸曲面效果最差C
凸曲面最好,凹曲面居中,平面效某最差D
粗糙表面比平滑表面更容易实现耦合
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