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下颌印模后缘应盖过磨牙后垫

A.1/3

B.1/4

C.1/2

D.全部


参考答案和解析
1/2;全部
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考题 制取无牙下颌印模时,远中的范围是A、盖过磨牙后垫B、盖过磨牙后垫的2/3C、盖过磨牙后垫的1/2~2/3D、盖过磨牙后垫的前1/3~1/2E、暴露磨牙后垫

考题 制取无牙下颌印模时,远中的范围应当A.盖过磨牙后垫全部B.暴露磨牙后垫C.盖过磨牙后垫1/2D.盖过磨牙后垫的1/3E.盖过磨牙后垫的1/2~2/3

考题 对无牙颌印模范围的要求中,不正确的描述为 ( )A、基托伸展范围过大,会损伤粘膜组织B、基托伸展范围不足,将使义齿的固位和支持力均受到影响C、上颌印模后缘应盖过腭小凹和翼上颌切迹D、下颌印模后缘应盖过磨牙后垫前缘E、舌侧后缘伸展应越过下颌舌骨嵴舌侧翼缘区

考题 制取无牙下颌印模时,远中的范围应当()A、盖过磨牙后垫全部B、暴露磨牙后垫C、盖过磨牙后垫1/2D、盖过磨牙后垫的1/3E、盖过磨牙后垫的1/2~2/3

考题 单选题对无牙颌印模范围的要求中,不正确的描述为( )A 基托伸展范围过大,会损伤粘膜组织B 基托伸展范围不足,将使义齿的固位和支持力均受到影响C 上颌印模后缘应盖过腭小凹和翼上颌切迹D 下颌印模后缘应盖过磨牙后垫前缘E 舌侧后缘伸展应越过下颌舌骨嵴舌侧翼缘区