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在某基片（n0=1.2）上镀厚度均匀的氧化硅（n=1.5）膜，用正入射的平行光（λ=0.63 μm）来监视膜的厚度变化。设未镀膜时，基片表面较暗。随着膜的厚度逐步增加，膜表面由暗变亮，再由亮变暗。镀膜过程中，共有8次这样的周期变化。求所镀膜的厚度。

参考答案和解析
k 1 λ 1 =k 2 λ 2 2en=k 1 λ 1 =3500nm 得 k=6，λ 6 =636.36nm k=7，λ 7 =538.46nm k=8，λ 8 =466.7nm
更多 “在某基片（n0=1.2）上镀厚度均匀的氧化硅（n=1.5）膜，用正入射的平行光（λ=0.63 μm）来监视膜的厚度变化。设未镀膜时，基片表面较暗。随着膜的厚度逐步增加，膜表面由暗变亮，再由亮变暗。镀膜过程中，共有8次这样的周期变化。求所镀膜的厚度。” 相关考题
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