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阐述磁控溅射原理（直流、射频两类），对实验过程注意事项做个总结

参考答案和解析
在一定的真空条件下,通过施加于靶材与基片的负电压差,产生一个与磁场正交的电场。使电子在电场的作用下冲击Ar原子,电离大量的Ar+快速冲撞靶材。使阴极靶材快速沉积到基片上,实现溅射镀膜。
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