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NPN型晶体管处于放大状态时,由发射区注入基区的自由电子绝大多数被复合。


参考答案和解析
B
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考题 晶体管的发射区的作用是向基区发射自由电子,集电区的作用是收集这些自由电子。() 此题为判断题(对,错)。

考题 晶体管的内部放大条件是:发射区重掺杂,基区轻掺杂且宽度很窄,集电极面积大等。()

考题 NPN型晶体管的发射区是()型半导体,集电区是()型半导体,基区是()型半导体。

考题 晶体管的基区之所以做得很薄,是为了减少电子和空穴在基区的复合机会,从而使由发射区进入基区的载流子,绝大部分能进入集电区而形成较大的集电极电流。() 此题为判断题(对,错)。

考题 晶体管能够放大的内部条件是()。 A.两个背靠背的PN结B.自由电子与空穴都参与导电C.有三个掺杂浓度不同的区域D.发射区高掺杂;基区很薄;集电区掺杂浓度低但面积大

考题 晶体管具备电流放大的内部条件是()。 A.基区薄而其杂质浓度低B.基区杂质浓度高C.降低发射区杂质浓度D.加强电子在基区的复合

考题 NPN型晶体管工作在放大状态时,其发射极电压与发射极电流的关系为(  )。

考题 正常放大时,三极管耗能最大的是().A、发射区B、基区C、发射结D、集电结

考题 NPN型晶体管处于放大状态时,各级的电位关系是()。A、UC﹥UE﹥UBB、UC﹥UB﹥UEC、UC﹤UB﹤UE

考题 对NPN三极管来说,下列说法正确的是()。A、当发射极正向偏置时,从发射区来的少数截流子电子很容易越过发射区扩散到基区;B、扩散到基区的电子全被空穴复合掉了;C、外电路不断地向发射区补充电子,以维持多数载流子的浓度差;D、以上说法都错。

考题 用万用表测量某电子线路中的晶体管测得VE=-3V、VCE=6V、VBC=-5.3V,则该管是()。A、PNP型,处于放大工作状态B、PNP型处于截止工作状态C、NPN型,处于放大工作状态D、NPN型处于截止工作状态

考题 晶体管分为三层分别为()A、发射区B、放大区C、集电区D、基区E、扩张区

考题 NPN型晶体管处于放大状态时,各极电压关系是()。A、UC>UE>UBB、UC>UB>UEC、UC<UB<UED、UC<UE<UB

考题 三极管的电流放大作用取决于电子在()中扩散与复合的比例。A、基极B、基区C、集电压D、发射区

考题 每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

考题 晶体管热噪声主要存在于()电阻内。A、基区B、发射区C、集电区D、发射区和集电区

考题 晶体管具备电流放大的内部条件是()。A、基区薄而其杂质浓度低B、基区杂质浓度高C、降低发射区杂质浓度D、加强电子在基区的复合

考题 叙述晶体三极管电流的传输过程()。A、发射区向基区注入载流子过程B、少数载流子,在基区扩散与复合过程C、集电区收集载流子的过程D、基区向发射区注入载流子过程

考题 造成大电流时晶体管电流放大系数下降的因素有____、集电结空间电荷限制的效应、____。()A、基区电导调制效应,发射区有偏压效应B、基区有偏压效应,发射区电导调制效应C、基区电导调制效应,基区有偏压效应D、发射区有偏压效应,基区有偏压效应

考题 无论是NPN型管还是PNP型管,它们内部均含有三个区,即发射区、基区和()。

考题 三极管工作在放大状态时,发射区是()载流子,基区则是作为输送和控制载流子的基地,集电区是()载流子的。

考题 三极管能放大的内因是:发射区掺杂浓度()、基区宽度()且杂质浓度()、集电结面积();外部条件是:发射结处于()偏置,集电结处于()偏置。

考题 NPN型三极管处于放大状态时,各极电位的关系是()A、UcUbUeB、UcbbUeC、UcUeUbD、Uc=Ub=Ue

考题 NPN型晶体三极管处于放大状态时,各极电位关系是()。A、UcUeUbB、UcUbUeC、UcD、Uc

考题 填空题在设计与制造晶体管时,为提高晶体管的电流放大系数,应当()基区宽度,()基区掺杂浓度。

考题 单选题NPN型晶体管处于放大状态时,管脚电位应有()。A VC>VE>VBB VC>VB>VEC VC>VB>VED VB>VE>VC

考题 填空题每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

考题 判断题标准双极型工艺中的纵向NPN晶体管的发射区掺杂浓度比集电区小。A 对B 错