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问答题
光刻的步骤是哪些？

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考题 问答题例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
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考题 判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A 对B 错
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考题 问答题简述光刻工艺的8个基本步骤。
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考题 填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
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考题 问答题列出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
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