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判断题
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
A

对

B

错

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解析： 暂无解析
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考题 单选题实现超微图形成像的（）技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。A 光刻B 刻蚀C 氧化D 溅射
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