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下 列 配 体 中, 与 过 渡 金 属 离 子 只 能 形 成 高 自 旋 八 面 体 配 合 物 的 是

A.CO

B.NH3

C.CN-

D.F-


参考答案和解析
F -
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考题 下列关于配合物的说法中,错误的是() A、中心离(原)子与配体以配位键结合B、配位体是具有孤对电子的负离子或分子C、配位数是中心离(原)子结合的配位体个数之和D、配离子可以存在于溶液中,也可以存在于晶体中

考题 络合物的配位体分为()配位体和()配位体及混合配位体。

考题 与中心离子相结合的配位体的总数称为()。A、中心离子的配位数B、络合物的总数C、中心离子的总数D、配位体的总数

考题 EDTA是一个多基配位体,所以能和金属离子生成稳定的环状配合物。()

考题 已知金属离子M与配位体L形成逐级络合物。则络合反应的平均配位数与()。A、金属离子的浓度有关B、与配位体的浓度有关C、与金属离子和配位体的浓度有关D、与金属离子和配位体的浓度都无关,仅与稳定常数有关

考题 当ΔO>P时,过渡金属离子能形成()自旋八面体配合物;当ΔO<P时,则形成()自旋八面体配合物;前者的CFSE与P()关。

考题 配位数为4的内轨型配合物,其空间构型为()A、正四面体B、正八面体C、三角锥形D、平面正方形

考题 关于螯合物的叙述,不正确的是()A、螯合物的配位体是多齿配体,与中心原子形成环状结构B、螯合物中环愈多愈稳定C、螯合剂中有空间位阻时,螯合物稳定性越小D、螯合剂中配位原子相隔越远形成的环越大,螯合物稳定性越大

考题 配离子[Fe(CN)6]3-,采取的是d2sp3杂化形式,则此配合物的空间构型为()。A、正四面体B、正八面体C、三角双锥D、平面三角形

考题 CoCl(NH3)5]Cl2的配合物的内界是(),外界(),配位体是(),配位数是(),配位原子是(),配合物名称为()。

考题 形成螯合物的配位体都是多齿配位体。

考题 下列关于螯合物的叙述中,不正确的是()。A、有两个以上配位原子的配位体均生成螯合物B、螯合物通常比具有相同配位原子的非螯合配合物稳定得多C、形成螯环的数目越大,螯合物的稳定性不一定越好D、起螯合作用的配位体一般为多齿配位体,称螯合剂

考题 配合物(NH4)2[FeF5(H2O)]的系统命名为(),配离子的电荷是(),配位体是(),配位原子是(),中心离子的配位数是()。根据价键理论,中心原子的杂化轨道为(),属()型配合物。

考题 下列描述配合物的配位数与空间构型关系的说法不正确的是:()A、中心离子配位数为2的配合物均为直线形;B、中心离子配位数为3的配合物均为三角形;C、中心离子配位数为4的配合物均为四面体型;D、中心离子配位数为6的配合物均为八面体型。

考题 关于配位化合物的特点,不正确的是()A、配位化合物不符合经典的化合价理论B、配合物中的配位键都是由金属离子接受配位体的电子对形成的C、大多数配合物有颜色D、多数配离子既可以存在于晶体中,也能存在于水溶液中

考题 配合物中,配位数就是与中心离子结合的配位体的个数。

考题 配合物的空间构型和配位数之间有着密切的关系,配位数为4的配合物空间立体构型是()A、正四面体B、正八面体C、直线型D、三角形E、平面正方形

考题 氧化铝处于4配位时,形成四面体结构;处于6配位时,形成()面体结构。

考题 区分下列概念: (1)接受体原子和给予体原子; (2)配位体和配位原子; (3)配合物和复盐; (4)外轨配合物和内轨配合物; (5)高自旋配合物和低自旋配合物; (6)几何异构体和旋光异构体;

考题 填空题络合物的配位体分为()配位体和()配位体及混合配位体。

考题 单选题已知金属离子M与配位体L形成逐级络合物。则络合反应的平均配位数与()。A 金属离子的浓度有关B 与配位体的浓度有关C 与金属离子和配位体的浓度有关D 与金属离子和配位体的浓度都无关,仅与稳定常数有关

考题 问答题配位体H-和PPh3的场强相近,均处于光谱化学序列的高场位置。试回答:只有π酸配位体(膦配位体显示π酸性)才可能是强场配位体吗?

考题 单选题在离子晶体中,当正负离子半径比值在0.225~0.414的范围内时,形成()A 四面体配位B 八面体配位C 平面三角形配位D 立方体配位

考题 单选题八面体的配位数是()A 8B 6C 4

考题 单选题下列单形中属开形的为()。A 偏方复十二面体B 立方体C 斜方柱D 菱面体

考题 问答题在聚形中如何区分下列单形:斜方柱与四方柱;斜方双锥、四方双锥与八面体;三方单锥与四面体;三方双锥与菱面体;菱形十二面体与五角十二面体。

考题 填空题氧化铝处于4配位时,形成四面体结构;处于6配位时,形成()面体结构。

考题 单选题配位八面体中心阳离子的配位数是()。A 8B 6C 4D 10