考题
EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A.水量B.水质C.TEAD.TES
考题
如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。A对B错
考题
过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A水量；水质B水质；TESCTEA；水量DTES；水量
考题
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口
考题
EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A、水量；水质B、水质；TESC、TEA；水量D、TES；水量
考题
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。A、浓水B、极水C、淡水D、给水
考题
EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的压力损失增加。
考题
如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。
考题
EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
考题
EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。A、电压B、给水水量C、离子迁移数量D、电压梯度
考题
EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的（）增加。A、电流损失B、电压损失C、压力损失D、树脂损失
考题
如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量（）。A、增加；减少B、减少；出水C、出水；增加D、给水；增加
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的TES和纯水水质要求有关。
考题
过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
考题
多选题EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A水量B水质CTEADTES
考题
单选题如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量（）。A
增加；减少B
减少；出水C
出水；增加D
给水；增加
考题
单选题EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A
水量；水质B
水质；TESC
TEA；水量D
TES；水量
考题
单选题EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A
增加B
减少C
出水D
给水
考题
判断题EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A
对B
错
考题
单选题EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。A
电压B
给水水量C
离子迁移数量D
电压梯度
考题
判断题如果EDI组件电流降低或给水离子总量增加，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。A
对B
错
考题
判断题过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A
对B
错
考题
单选题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A
浓水出口B
极水出口C
给水D
浓水和极水出口
考题
单选题为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。A
浓水B
极水C
淡水D
给水
考题
单选题EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的（）增加。A
电流损失B
电压损失C
压力损失D
树脂损失