考题
半精密附着体制作过程中，附着体的阴性部件在铸造完毕后处理铸件表面，去除表面的氧化层，禁止使用的技术是A、玻璃刷处理B、超声清洗C、喷砂技术D、橡皮轮抛光E、布轮抛光
考题
光纤端面的处理包括哪些过程?()
A、去除套塑层B、去除一次涂层C、清洗光纤D、切割、制备端面
考题
清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的剩余渗透剂。()
此题为判断题(对，错)。
考题
溶剂去除型渗透剂用清洗剂去除。不得往复擦拭，不得用清洗剂直接在被检面上冲洗。
考题
软式内镜的清洗是指使用含有医用清洗剂的清洗用水，去除附着于内镜的污染物的过程。
考题
焊后热处理的目的主要是为了（）。A、消除焊接残余应力B、去除焊接缺陷C、提高硬度D、提高强度
考题
零件检测后清洗应（）。A、尽快进行，这样比较容易去除残余物B、若干小时后再进行，干的残余材料易于去除C、加热零件，提高残余物的溶解度D、激冷零件，使残余材料失去附着力
考题
工件检测后清洗应（）。A、尽快进行，这样比较容易去除残余物B、若干小时后进行，干的残余材料易于去除C、加热工件，这样比较容易去除残余物D、激冷工件，这样比较容易去除残余物
考题
水洗型及后乳化型渗透剂均用（）进行清洗处理和去除处理
考题
清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的残余（）A、乳化剂B、显像剂C、渗透剂D、以上各种
考题
按处理程度，废水处理一般可分成三级，其中二级处理的任务是（）。A、去除悬浮状固体污染物B、去除微生物不能分解的有机物C、大幅度地去除有机污染物D、去除微生物和分解后的有机物
考题
清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面残余的（）。A、乳化剂B、现象剂C、渗透剂D、以上各点
考题
清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的多于渗透剂。
考题
光纤端面处理包括（）、去除涂覆层、清洗和切割等过程。
考题
光纤端面处理包括（），制备端面和清洗。A、去除光缆外护层B、去除套塑层C、预涂覆层D、切割
考题
光纤端面的处理包括哪些过程A、去除套塑层B、去除一次涂层C、清洗光纤D、光纤切割
考题
城市污水的一级处理主要针对水中悬浮物质，常采用物理的方法，经过一级处理后，污水悬浮物去除可达40%左右，附着于悬浮物的有机物也可去除（）左右。A、30%B、40%C、50%D、60%
考题
溶剂去除型渗透探伤方法检测步骤为：预处理、（）、清洗、干燥和显像观察。
考题
渗透检验后清洗应（）这样比较容易去除残余物。
考题
单选题零件检测后清洗应（）。A
尽快进行，这样比较容易去除残余物B
若干小时后再进行，干的残余材料易于去除C
加热零件，提高残余物的溶解度D
激冷零件，使残余材料失去附着力
考题
判断题溶剂去除型渗透剂用清洗剂去除。不得往复擦拭，不得用清洗剂直接在被检面上冲洗。A
对B
错
考题
判断题清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的多于渗透剂。A
对B
错
考题
填空题水洗型及后乳化型渗透剂均用（）进行清洗处理和去除处理
考题
单选题半精密附着体制作过程中，附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用哪种技术处理铸件表面，去除表面的氧化层（）A
玻璃刷处理B
超声清洗C
喷砂技术D
橡皮轮抛光E
布轮抛光
考题
单选题一般城市污水处理厂分一、二、三级处理，其中三级处理的目的是为了（）。A
去除有机物B
去除无机物C
去除颗粒物D
去除氮
考题
填空题渗透检验后清洗应（）这样比较容易去除残余物。
考题
单选题工件检测后清洗应（）。A
尽快进行，这样比较容易去除残余物B
若干小时后进行，干的残余材料易于去除C
加热工件，这样比较容易去除残余物D
激冷工件，这样比较容易去除残余物