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名词解释题
杂质的精馏系数

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考题 影响金属的导热系数的因素有()。 A、成分B、组织C、温度D、杂质
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考题 单体为什么要精馏()。 A、除去单体中乙炔、高沸物等杂质B、除去单体中氯乙烯、高沸物等杂质C、除去单体中氯乙炔、高沸物等杂质D、除去单体中甲烷、高沸物等杂质
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考题 原料二氧化碳气中含有氮、氢、甲烷、丙烷等杂质，经精馏操作后，从塔顶冷凝器气相放空的主要成分应为（）
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考题 含有杂质的液体比纯净的液体表面张力系数要大。
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考题 原料二氧化碳气中含有氮、氢、甲烷、水及重烃类等杂质，经精馏操作后，从塔顶流出的物质，其主要杂质不应为（）A、氮B、氧C、甲烷D、C6H14
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考题 预分馏塔主要的目的和作用（），供重整反应。A、精馏B、脱除杂质C、脱水D、切取适宜的馏分
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考题 产品的纯度偏低可能时由于（）。A、反应系统出现问题，导致主反应的副反应增多B、设备有泄漏，产品中带入杂质C、精馏操作不当D、进料负荷过低
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考题 丁烯精馏塔是从塔顶排放杂质。
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考题 纯金属中加入任何杂质，导热系数都会降低。
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考题 含有杂质的液体比纯净的液体的表面张力系数要大
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考题 在二氧化碳提纯工序中，精馏的目的是（）A、彻底分离水B、分离CH4、丙烷及氮气等杂质C、分离大部分沸点高于二氧化碳的杂质组分D、分离硫化物
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考题 甲醇精馏中予塔作用是去除溶解在粗甲醇中的（）等轻组分杂质。A、二甲醚B、氢气C、一氧化碳D、水
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考题 精馏系统加碱的目的是（）。A、防止设备腐蚀B、调整塔压C、调整产品质量D、脱出粗甲醇中的杂质
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考题 精馏系统加碱的作用是（）。A、增加预精馏塔的尾气量B、调整塔压C、促进有机杂质的分解D、脱出粗甲醇中的杂质
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考题 在热泵系统中，当精馏塔操作压力升高时，下列说法正确的是（）。A、节能效率增加B、供热系数较高C、节能效率减小D、供热系数较低
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考题 蒸汽通过清洗装置的清洁水层时，它所溶解携带的杂质和清洗水中的杂质就按分配系数重新分配，使蒸汽中原来溶解的杂质一部分转移到清洗水中，降低了蒸汽溶解携带杂质的含量。
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考题 下列操作中对控制粗甲醇杂质生成有利的是（）A、投用水洗塔B、减少精馏进料C、提高压缩机的压缩比D、减少放空量
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考题 萃取剂对目标产物和杂质的分离能力可用（）来表征。A、分离因数B、萃取因素C、分配系数D、活度系数
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考题 简述酒精蒸馏挥发系数与精馏系数。
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考题 绝缘油中的杂质对击穿电压的影响主要决定于杂质的（）和杂质的（）与油介电系数的差别，差别越大，影响越（）。
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考题 判断题丁烯精馏塔是从塔顶排放杂质。A 对B 错
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考题 问答题什么是杂质分凝效应和分凝系数？
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考题 判断题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件是杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数。A 对B 错
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考题 问答题简述什么是挥发系数和精馏系数？
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考题 单选题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A ②④B ①③C ①④D ②③
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考题 填空题萃取操作中选择性系数与精馏操作中（）相当。
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考题 问答题什么是挥发系数和精馏系数？
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