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单选题
二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些() ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数 ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度 ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度
A
②④
B
①③
C
①④
D
②③
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解析:
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考题
膜的透过特性取决于细孔流及水、溶质在容胀膜表面中的扩散系数。通过细孔的溶液量与整个膜的透水量之比愈小,同时水在膜中的扩散系数与溶质在膜中的扩散系数之比愈大,则膜的()。A、溶解性好B、扩散性好C、渗透性好D、选择性好
考题
单选题根据扩散系数与温度的依赖关系,扩散活化能Q值的关系是()A
Q值越大说明温度对扩散系数的影响越敏感B
Q值越小说明温度对扩散系数的影响越敏感C
Q值大小与温度对扩散系数的影响无关D
其他
考题
单选题膜的透过特性取决于细孔流及水、溶质在容胀膜表面中的扩散系数。通过细孔的溶液量与整个膜的透水量之比愈小,同时水在膜中的扩散系数与溶质在膜中的扩散系数之比愈大,则膜的()。A
溶解性好B
扩散性好C
渗透性好D
选择性好
考题
问答题杂质在硅中有哪些扩散机制?
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