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判断题
像质计用来指示底片对比度
A
对
B
错
参考答案
参考解析
解析:
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考题
按照JB/T 4730.2-2005《承压设备无损检测 第2部分:射线检测》规定,单壁透照中,如果像质计无法放在源侧而放在胶片侧时,应在像质计适当位置放置铅字“F”作为标记,“F”标记的影像应与像质计的标记同时出现在底片上,且应在检测报告上注明。()
考题
下述有关像质计特质的叙述中,不正确的是()A、像质计材质和试件有相当的射线吸收系数B、像质计形状与尺寸都是已知的C、像质计和试件一起成像,而用来鉴定试件品质的重要工具D、像质计并不直接用来和缺陷尺寸相比较
考题
以下有关放置像质计的说法正确的是()A、原则上每一张射线底片都应放置像质计B、周向曝光技术中,在至少每隔120º的位置上放置一个像质计C、像质计一般放在射线底片的两端,像质计最细的金属丝应靠近端头处D、以上都对
考题
射线探伤时,在胶片暗盒和底部铅板之间放一个一定规格的B字铅符号,如果经过处理的底片上出现B的亮图像,则认为()A、这一张底片对比度高,像质好B、这一张底片清晰度高,灵敏度高C、这一张底片受正向散射线影响严重,像质不符合要求D、这一张底片受背向散射影响严重,像质不符合要求
考题
单选题射线探伤时,在胶片暗盒和底部铅板之间放一个一定规格的B字铅符号,如果经过处理的底片上出现B的亮图像,则认为()A
这一张底片对比度高,像质好B
这一张底片清晰度高,灵敏度高C
这一张底片受正向散射线影响严重,像质不符合要求D
这一张底片受背向散射影响严重,像质不符合要求
考题
单选题下述有关像质计特质的叙述中,不正确的是()A
像质计材质和试件有相当的射线吸收系数B
像质计形状与尺寸都是已知的C
像质计和试件一起成像,而用来鉴定试件品质的重要工具D
像质计并不直接用来和缺陷尺寸相比较
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