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单选题
以下哪一个不是电子束表面处理主要特点()
A
加热和冷却速度快
B
熔化层薄
C
能量利用率高
D
结构简单
参考答案
参考解析
解析:
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考题
电子束百分深度剂量随能量的改变而改变,其变化特点是()A、随着电子束能量的增加,其表面剂量降低、高剂量坪区变窄、剂量跌落梯度增加,并且X线污染减小B、随着电子束能量的增加,其表面剂量降低、高剂量坪区变宽、剂量跌落梯度减少,并且X线污染增加C、随着电子束能量的增加,其表面剂量增加、高剂量坪区变宽、剂量跌落梯度减少,并且X线污染增加D、随着电子束能量的增加,其表面剂量增加、高剂量坪区变窄、剂量跌落梯度增加,并且X线污染增加E、随着电子束能量的增加,其表面剂量增加、高剂量坪区变宽、剂量跌落梯度减少,并且X线污染减小
考题
单选题以下哪一个不是补体系统中细胞膜表面(结合)的补体调节因子?( )A
Cl INHB
DAFC
CRlD
CR2E
MCP
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