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单选题
集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路技术发展的叙述中,错误的是()
A

目前已经可以将数字电路、模拟电路和射频电路等集成在同一芯片上

B

当前最复杂的CPU芯片所集成的晶体管数目已多达10亿个

C

当前速度最快的CPU芯片时钟频率已经高达10GHz

D

微机电系统(MEMS)在芯片上融合了光﹑机﹑电等多种不同类型的构件


参考答案

参考解析
解析: 随着电子设计自动化水平的提高和VLSI制造技术的飞速发展,半导体加工已经从微米、亚微米进入到深亚微米的时代,单个芯片上可以集成几亿个甚至几十亿个晶体管,因而能够把计算机或其他一些电子系统的全部电路都集成在单个芯片上,既包含数字电路,也可以包含模拟电路,甚至还能包含数字/模拟混合电路和射频电路。微机电系统在芯片上融合了光、机械、电子等多类不同技术的构件,是集微型传感器、微型执行器、信号处理器、接口、通信电路和电源等于一体的微型器件或者微型系统。当前速度最快的CPU已超过10G了,故C项错误。
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考题 教师资格考试判断题;信息技术发展经历了电子管时代、晶体管时代、集成电路时代、大规模集成电路时代、 信息技术发展经历了电子管时代、晶体管时代、集成电路时代、大规模集成电路时代、多媒体网络时代。

考题 嵌入式系统使用的片上系统英文缩写名为SoC,下面关于SoC叙述中错误的是()。A.SoC也称为系统级芯片,它是电子设计自动化水平的提高和集成电路制造技术飞速发展的产物B.SoC芯片中既包含数字电路,也可以包含模拟电路,甚至还能包含数字/模拟混合电路和射频电路C.SoC将嵌入式系统的几乎全部功能都集成在一块芯片中,单个芯片就能实现数据的采集、转换、存储、处理和I/O等多种功能D.SoC的设计制造难度很大,目前还没有得到广泛使用

考题 微电子技术特别是集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路的叙述中错误的是()。A.集成电路的集成度指的是单个集成电路所含电子元件(如晶体管、电阻、电容等)的数目多少B.根据集成度的高低,集成电路可以分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等几种C.嵌入式系统中使用的处理器芯片属于大规模集成电路D.集成电路的制造工艺复杂且技术难度非常高,许多工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成

考题 集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路技术发展的叙述中,错误的是:()。A.单块集成电路的集成度平均每18~24个月翻一番B.集成电路的工作频率越来越高,功耗越来越低C.当前集成电路批量生产的主流技术已经达到45nm、32nm甚至更小的工艺水平D.集成电路批量生产使用的晶圆直径已经达到12~14英寸甚至更大

考题 下列关于集成电路特点的表述,错误的是( )。 A.集成电路是微电子技术的核心 B.集成电路是现代电子信息技术的基础 C.集成电路的体积小 D.集成电路的能耗高

考题 我国继电保护技术发展过了五个阶段,其发展顺序是( )A.机电型、晶体管型、整流型、集成电路型、微机型 B.机电型、整流型、集成电路型、晶体管型、微机型 C.机电型、整流型、晶体管型、集成电路型、微机型

考题 在大规模集成电路的制造中,更多采用的是MOS工艺集成电路,而不是双极型集成电路。

考题 在下列有关集成电路的叙述中,错误的是()。A、集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的B、大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象C、现代集成电路使用的半导体材料主要是硅D、集成电路技术发展很快,至今已达到线宽0.001um的工艺水平

考题 信息技术发展的第一代是()。A、晶体管时代B、电子管时代C、大规模集成电路时代D、集成电路时代

考题 微电子技术发展经历了五代,即半导体技术、集成电路技术、大规模集成电路技术、超大规模集成电路技术、超大规模智能化集成电路技术。()

考题 微电子技术是现代信息技术的基础之一,而微电子技术又以集成电路为核心。下列关于集成电路的叙述中,错误的是()A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路均使用半导体硅材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 下面关于集成电路的叙述中错误的是()A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路使用的都是半导体硅材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切的关系

考题 下面关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()。A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路使用的都是半导体硅(Si)材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 在下列有关集成电路和叙述中,错误的是()A、集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的B、大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象C、现代集成电路使用的半导体材料主要是硅(Si)D、集成电路技术发展很快,至2005年初已达到0.001微米的工艺水平

考题 下列关于电子产业说法中错误的是()A、微电子技术以集成电路为核心B、硅是微电子产业中常用的半导体材料C、现代微电子技术已经用砷化镓取代了硅D、制造集成电路都需要使用半导体材料

考题 下列关于集成电路的说法中错误的是()A、集成电路是现代信息产业的基础之B、集成电路只能在硅(Si)衬底上制作而成C、集成电路的特点是体积小、重量轻、可靠性高D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管的尺寸密切相关

考题 线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中线宽为()。A、几个微米B、几个纳米C、50纳米左右D、100纳米左右

考题 我国继电保护技术发展过了五个阶段,其发展顺序是()A、机电型;晶体管型;整流型;集成电路型;微机型B、机电型;整流型;集成电路型;晶体管型;微机型C、机电型;整流型;晶体管型;集成电路型;微机型

考题 单选题微电子技术是以集成电路为核心的电子技术。在下列关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()A 集成电路的发展导致了晶体管的发明B 现代计算机的CPU均是超大规模集成电路C 小规模集成电路通常以功能部件、子系统为集成对象D 所有的集成电路均为数字集成电路

考题 单选题半导体集成电路是微电子技术的核心。下面有关集成电路的叙述中错误的是()。A 集成电路有小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等多种,嵌入式处理器芯片一般属于大规模集成电路B 集成电路的制造大约需要几百道工序,工艺复杂且技术难度非常高C 集成电路大多在硅衬底上制作而成,硅衬底是单晶硅锭经切割、研磨和抛光而成的圆形薄片D 集成电路中的电路及电子元件,需反复交叉使用氧化,光刻,掺杂和互连等工序才能制成

考题 单选题微电子技术是现代信息技术的基础之一,而微电子技术又以集成电路为核心。下列关于集成电路的叙述中,错误的是()A 集成电路是上世纪50年代出现的B 集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C 集成电路均使用半导体硅材料D 集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 问答题集成电路技术发展的方向有哪些?尽可能描述。

考题 单选题在下列有关集成电路的叙述中,错误的是()。A 集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的B 大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象C 现代集成电路使用的半导体材料主要是硅D 集成电路技术发展很快,至今已达到线宽0.001um的工艺水平

考题 单选题下面关于集成电路的叙述中错误的是()A 集成电路是上世纪50年代出现的B 集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C 集成电路使用的都是半导体硅材料D 集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切的关系

考题 多选题下面关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()。A集成电路是上世纪50年代出现的B集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C集成电路使用的都是半导体硅(Si)材料D集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 单选题信息技术发展的第一代是()。A 晶体管时代B 电子管时代C 大规模集成电路时代D 集成电路时代

考题 单选题下列关于集成电路的说法中错误的是()A 集成电路是现代信息产业的基础之B 集成电路只能在硅(Si)衬底上制作而成C 集成电路的特点是体积小、重量轻、可靠性高D 集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管的尺寸密切相关