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申请布图设计登记，应办下列哪些手续？（）
- A、提交布图设计登记申请表
- B、提交布图设计复制件或图样
- C、已投入商业利用的，提交4件集成电路样品
- D、说明书
参考答案
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考题
在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A.10年，自布图设计创作完成之日起计算B.15年，自布图设计登记申请之日起计算C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》及其他相关规定，下列哪些说法是正确的？( )A.布图设计登记申请的申请文件未使用中文的，国家知识产权局不予受理
B.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行初步审查
C.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行实质审查
D.布图设计明显不符合该条例所规定的布图设计定义的，国家知识产权局应当作出驳回决定
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、将受保护的布图设计投入商业利用B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用C、对受保护的布图设计的全部进行复制D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）A、集成电路布图设计登记申请表B、集成电路布图设计的说明书和权利要求书C、集成电路布图设计的复制件或者图样D、集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
考题
在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A、10年，自布图设计创作完成之日起计算B、15年，自布图设计登记申请之日起计算C、15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D、10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A、该布图设计必须由个人对立创造B、该布图设计必须投入商业实施C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D、受保护的布图设计必须办理登记手续
考题
多选题下列期限说法哪些正确？（）A保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起（以较前日为准）计算时，布图设计专利权保护期为10年B布图设计自创作完成之日起算时，保护期为15年C布图设计自登记证书颁发日起算，保护期为10年D布图设计自产品投入商业利用日起，保护期为15年
考题
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A
甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B
乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C
丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D
丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
单选题关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A
该布图设计必须由个人对立创造B
该布图设计必须投入商业实施C
受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D
受保护的布图设计必须办理登记手续
考题
多选题布图设计权产生的形式条件包括（）。A布图设计必须投入商业实施B布图设计必须具有新颖性C布图设计必须固化到集成电路芯片中D必须办理有关登记手续
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