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单选题
布图设计已经投入商业利用的,在申请布图设计登记之时,申请人应该提交含有该布图设计的()。
A
文字资料
B
集成电路样品
C
设计原稿
D
布图设计图纸
参考答案
参考解析
解析:
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考题
在我国,集成电路布图设计专有权的保护期为().A.10年,自布图设计创作完成之日起计算B.15年,自布图设计登记申请之日起计算C.15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定,下列表述中正确的是()A.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A、将受保护的布图设计投入商业利用B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用C、对受保护的布图设计的全部进行复制D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬?()A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
考题
在我国,集成电路布图设计专有权的保护期为().A、10年,自布图设计创作完成之日起计算B、15年,自布图设计登记申请之日起计算C、15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算D、10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
在我国,布图设计专有权的保护期为()年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起()年后,不再受保护。A、10、15B、10、20C、15、20
考题
关于布图设计权产生的形式条件,通常不包括()A、该布图设计必须由个人对立创造B、该布图设计必须投入商业实施C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D、受保护的布图设计必须办理登记手续
考题
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A
甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B
乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C
丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D
丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
单选题在我国,集成电路布图设计专有权的保护期为().A
10年,自布图设计创作完成之日起计算B
15年,自布图设计登记申请之日起计算C
15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算D
10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的,应当提交下列哪些文件或者物品?()A集成电路布图设计登记申请表B集成电路布图设计的说明书和权利要求书C集成电路布图设计的复制件或者图样D集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品
考题
单选题关于布图设计权产生的形式条件,通常不包括()A
该布图设计必须由个人对立创造B
该布图设计必须投入商业实施C
受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D
受保护的布图设计必须办理登记手续
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