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因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）

  • A、随时间的延长而减少
  • B、在较高的温度下，沾污较少
  • C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污
  • D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生
  • E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生

参考答案

更多 “因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A、随时间的延长而减少B、在较高的温度下，沾污较少C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生” 相关考题
考题 由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是A、玷污随时间的延长而减少B、在较高的温度下，玷污较小C、只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D、在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
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考题 由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是A、粘污随时间的延长而减少B、在较高的温度下，粘污较小C、只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
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考题 重量分析中要求沉淀物要纯净，（）。A、沉淀中不能含有水分子B、沉淀式与称量式完全一致C、沉淀为晶型沉淀D、要避免杂质的沾污
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考题 下列需在职业医疗去污中心进行去污的是（）。A、头面部沾污B、伤口污染C、去污不彻底或沾污面积﹥20%相对体表面积D、沾污伴有受伤的情况
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考题 超超临界机组受热面沾污（结渣），沾污使受热面吸热减少，过热汽温下降。
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考题 注水总面积等于各注水层异常面积之和加上（）之和。A、沾污面积B、校正后的沾污面积C、最底层的沾污面积D、最上层的沾污面积
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考题 墨水在储存过程中易出现现象是（）。A、沉淀B、渗漏C、串味D、沾污
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考题 分析工作者可能引入的沾污：香烟可能带来的沾污元素为（）。A、铅B、铁C、钾D、氯离子E、锌
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考题 载体要有较强的吸附性和结合能力，以保证在高压注入水的冲洗下不产生（）现象。A、脱附B、沾污C、沉淀D、滤积
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考题 在放射性同位素示踪注水剖面测井中，示踪剂与油管内外壁、配水器等易形成沾污。按形成的机理，沾污可主要分为（）两大类。A、油管沾污和接箍沾污B、偏心沾污和配水器沾污C、吸附沾污和沉淀沾污D、封隔器沾污和套管沾污
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考题 油套管接箍、配水器、套管内壁或油管外壁等处的沾污按沾污机理属于（）沾污。A、吸附B、沉淀C、筒状D、环状
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考题 沉淀被沾污的原因有（）A、表面吸附B、混晶C、包藏D、后沉淀
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考题 重量分析中，沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污，沉淀表面最优先吸附的离子是（）A、构晶离子B、高价离子C、极化程度大的离子D、浓度大的离子
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考题 玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡几小时，其目的在于（）A、清洗电极B、活化电极C、校正电极D、除去沾污的杂质
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考题 关于全身沾污仪的使用，下面说法不正确的是（）。A、测量全身沾污仪时，严禁手上持有任何物品B、测量全身沾污仪时，应按要求和提示进行测量C、被测量出有污染时，自行到去污间进行去污D、全身沾污仪是用来测量全身体表污染的设备
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考题 pH玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡几小时，目的在于（）A、清洗电极B、活化电极C、校正电极D、除去沾污的杂质
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考题 超临界机组受热面沾污（结渣），沾污使受热面吸热减少，过热汽温下降
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考题 超临界机组受热面沾污（结渣），沾污使受热面吸热减少，过热汽温（）。
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考题 转子沾污后对精度影响不大。
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考题 单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（　　）。A 只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污B 在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生C 在较高的温度下，粘污较小D 粘污随陈化时间的延长而减少E 改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
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考题 多选题下列需在职业医疗去污中心进行去污的是（）。A头面部沾污B伤口污染C去污不彻底或沾污面积﹥20%相对体表面积D沾污伴有受伤的情况
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考题 单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）。A 玷污随时间的延长而减少B 在较高的温度下，玷污较小C 只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D 在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E 改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
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考题 单选题墨水在储存过程中易出现现象是（）。A 沉淀B 渗漏C 串味D 沾污
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考题 多选题沉淀被沾污的原因有（）A表面吸附B混晶C包藏D后沉淀
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考题 单选题重量分析中，沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污，沉淀表面最优先吸附的离子是（）A 构晶离子B 高价离子C 极化程度大的离子D 浓度大的离子
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考题 单选题pH玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡几小时， 目的在于（）A 清洗电极B 活化电极C 校正电极D 除去沾污的杂质
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考题 单选题因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A 随时间的延长而减少B 在较高的温度下，沾污较少C 只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D 在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E 改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生
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