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填空题
共混高分子中,若只有一个Tg,说明两组分的相容性()。
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考题
散剂制备中,混合很关键,不符合一般原则的是( )A.等比混合易混匀B.组分数量差异大者,采用等量递加混合法C.组分堆密度差异大时,堆密度小者先放入混合容器中D.含低共熔成分时,应避免共熔E.药粉形状相近者易于混匀
考题
下列选项中属于应用并用体系的主要目的的是()A、采用并用和共混工艺,可以制得性能优异的高分子“合金”,其性能不仅仅是互相之间取长补短,而且超过两种初始并用材料的各自原有性能B、采用并用和共混工艺,改进胶料的工艺性能。C、采用并用和共混工艺满足产品的实际使用需求D、采用并用和共混工艺保护环境
考题
两种材料进行共混时,可以形成宏观分相型高分子共混物、微观分相型高分子共混物和完全相容型高分子共混物,哪么对于微观分相型高分子共混物,其分散相的粒径()。A、﹥1μmB、在0.1μm~1μmC、0.1μm~10μmD、0.01μm~0.1μm
考题
在工艺上通常把二元理想溶液中轻重组分的蒸汽压之比称相对挥发度,记为α,当α=1时,不起任何分离作用,α值的大小标志着混合溶液分离的难易程度;α值愈大,下面说法正确的是()。A、说明两组分间的饱和蒸汽压相差愈大,在精馏过程中两组分间的分离愈容易B、说明两组分间的饱和蒸汽压相差愈小,在精馏过程中两组分间的分离愈容易C、说明两组分间的饱和蒸汽压相差愈大,在精馏过程中两组分间的分离困难D、说明两组分间的饱和蒸汽压相差愈小,在精馏过程中两组分间的分离愈困难
考题
散剂制备中不符合混合一般原则的是()A、等比混合易混匀B、组分数量差异大者,采用等量递加混合法C、组分堆密度差异大时,堆密度小者先放入混合容器中D、含低共熔成分时,应避免共熔E、药粉形状相近者易于混匀
考题
单选题最有可能形成三元最低共沸物的三元物系是()。A
物系中三个组分可两两形成三个二元最低共沸物B
物系中三个组分可两两形成三个二元最高共沸物C
物系中三个组分可两两形成两个二元最低共沸物,一个最高共沸物D
物系中三个组分可两两形成一个二元最低共沸物,两个最高共沸物
考题
单选题散剂制备中不符合混合一般原则的是()A
等比混合易混匀B
组分数量差异大者,采用等量递加混合法C
组分堆密度差异大时,堆密度小者先放入混合容器中D
含低共熔成分时,应避免共熔E
药粉形状相近者易于混匀
考题
判断题处方中含有能溶解低共熔混合物的液体时,应先将液体组分喷雾于其他固体组分中,混匀后,加入低共熔混合物。A
对B
错
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