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多晶硅可用氢气在高温(900~1100℃)下还原三氯硅烷(SiHCl3)制得。问要制备100g纯硅至少需要氢气()g,在0℃和101.325kPa下相当于()体积,又同时可产生氯化氢气体()g。(提示:SiHCl3+H2=Si+3HCl)
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升温还原控制原则()。
A.三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期B.三稳:提温稳、补氢稳、出水稳。C.三不准:提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水D.三控制:控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度
考题
下列关于石英器说法错误的是()。A、石英比色皿内部有污物可用盐酸与乙醇浸泡除去B、石英器皿可用于高纯水的制备C、石英仪器耐高温,可在1100℃以下的情况使用D、石英器皿可用于具有还原气氛的高温
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考题
单选题将硅砂转化成可用多晶硅的形式纰谬的是()A
四氯化硅法B
三氯氢硅法C
氯化钾法D
硅烷法
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